[实用新型]一种行星仿形抛光磨头无效

专利信息
申请号: 200720056842.4 申请日: 2007-09-06
公开(公告)号: CN201105406Y 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 丘兆才 申请(专利权)人: 广东科达机电股份有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B41/04
代理公司: 中山市科创专利代理有限公司 代理人: 尹文涛
地址: 528313广东省佛山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 行星 抛光
【说明书】:

[技术领域]

实用新型涉及陶瓷制品的加工领域,更具体地说是涉及一种陶瓷抛光磨头。

[背景技术]

目前对陶瓷砖进行抛光,行星式抛光磨头是常用的加工设备,其具有磨削效率高的优点。如图1所示,现有的行星式抛光磨头,包括有磨头体100,在磨头体100上轴向定位安装有行星齿轮轴200,在行星齿轮轴100的底部刚性联接有固定式行星磨轮300,该固定式行星磨轮300可以绕行星齿轮轴200旋转运动。现有技术的行星式抛光磨头的工作原理是:磨头体100旋转(公转),带动行星齿轮轴200旋转(自转);安装在行星齿轮轴200上的固定式行星磨轮300随磨头体作公转,同时自转;作公转和自转复合运动的固定式行星磨轮300对工件400进行磨削抛光。

然而,现有技术行星式抛光磨头存在以下不足:1、容易出现漏抛或抛光不均匀。由于砖坯表面存在不平整度,固定式行星磨轮与砖坯接触不均匀,甚至有的固定式行星磨轮不接触砖坯表面,导致漏抛或抛光不均匀。如图2所示为现有技术行星式抛光磨头存在抛光不均匀现象示意图。2、对于有弯曲表面的瓷砖无法加工。

为此有必要对现有技术进行改进,以解决上述问题。

[实用新型内容]

本实用新型克服了上述技术的不足,提供一种能够按照砖坯原有的表面进行均匀磨削抛光、不会出现漏抛或抛光不均匀现象的行星仿形抛光设备。

为实现上述目的,本实用新型采用了下列技术方案:一种行星仿形抛光磨头,包括有磨头体,在磨头体内装有传动齿轮组,其特征在于:在磨头体内装有能够轴向滑动的输出轴,在输出轴上设有与传动齿轮组啮合的从动齿轮,在输出轴的伸出端通过弹性连轴节装有可绕轴端摆动的浮动磨轮。

如上所述的一种行星仿形抛光磨头,其特征在于:输出轴通过径向轴承和推力轴承安装于磨头体上,在推力轴承和输出轴之间设有压缩弹簧。

如上所述的一种行星仿形抛光磨头,其特征在于:在输出轴的伸出端设有连接盘,所述的弹性连轴节一端与连接盘连接,另一端与浮动磨轮连接。

如上所述的一种行星仿形抛光磨头,其特征在于:在连接盘中心设有凸轴,所述凸轴上设有外球面;在所述浮动磨轮上设有内凹球面,所述的浮动磨轮通过内凹球面与凸轴外球面的配合而实现摆动。

如上所述的一种行星仿形抛光磨头,其特征在于:在推力轴承内固定有一个定位件,在输出轴的上端开有孔,在孔与定位件之间设有所述压缩弹簧。

与现有技术相比本实用新型的有益效果是:由于本实用新型,包括有磨头体,在磨头体内装有传动齿轮组,在磨头体内装有能够轴向滑动的输出轴,在输出轴上设有与传动齿轮组啮合的从动齿轮,在输出轴的伸出端通过弹性连轴节装有可绕轴端摆动的浮动磨轮,这样当磨头体旋转,带动输出轴旋转,安装在输出轴上的浮动磨轮等随磨头体作公转,同时自转;同时作公转和自转复合运动的浮动磨轮对工件进行磨削抛光。当浮动磨轮对工件凹凸不平的表面进行磨削抛光加工时,浮动磨轮可以跟随曲面上下滑动,同时浮动磨轮可以左右倾斜一角度,使磨轮始终与工件抛光表面贴合,获得均匀的抛光效果,解决了现有技术的漏抛或抛光不均匀的问题。

[附图说明]

下面结合附图与本实用新型的实施方式作进一步详细的描述:

图1为现有技术的结构示意图;

图2为现有技术进行加工时出现漏抛或抛光不均匀的现象示意图;

图3为本实用新型结构示意图;

图4为本实用新型进行加工时的示意图;

图5为图3的A处局部放大图。

[具体实施方式]

如图3~4所示,一种行星仿形抛光磨头,包括有磨头体1,在磨头体1内装有传动齿轮组2,在磨头体1内装有能够轴向滑动的输出轴3,在输出轴3上设有与传动齿轮组啮合的从动齿轮4,在输出轴3的伸出端通过弹性连轴节5装有可绕轴端摆动的浮动磨轮6。这样当磨头体1旋转,传动齿轮组2带动设有从动齿轮4的输出轴3旋转,安装在在输出轴3的伸出端上的浮动磨轮6等随磨头体作公转,同时自转;同时作公转和自转复合运动的浮动磨轮6对工件400进行磨削抛光。当浮动磨轮6对工件400凹凸不平的表面进行磨削抛光加工时,浮动磨轮6可以跟随曲面上下滑动,同时浮动磨轮6可以左右倾斜一角度,使磨轮始终与工件抛光表面贴合,获得均匀的抛光效果。

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