[实用新型]流体超平膜机有效
申请号: | 200720056581.6 | 申请日: | 2007-09-05 |
公开(公告)号: | CN201092563Y | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 何灯 | 申请(专利权)人: | 何灯 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528000广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 超平膜机 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种流体超平膜机。
背景技术
目前市场上用的淋釉机是钟罩淋釉型,其淋釉为弧形断面。钟罩淋釉不均匀,主要是淋釉的弧形断面对瓷砖的四个角施釉不均匀,导致砖的釉面层厚薄不均匀,达不到理想的效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术存在的缺点,提供一种流体超平膜机。
为达到上述目的,本实用新型采取了如下技术方案:
流体超平膜机,包括锥形加釉斗,筛网卷筒,施釉箱,机架及自动冲洗装置。锥形加釉斗安装在施釉箱前上方位置,施釉箱安装在机架上,筛网卷筒和自动冲洗装置安装在施釉箱内部。
上述技术方案中,泵至锥形加釉斗内的釉是通过溢流的方式流到施釉箱。
上述技术方案中,所述的筛网卷筒可为圆筒或圆柱筒。
上述技术方案中,施釉箱的由不锈钢板冲压成的底板和半园辊筒及辊棒组成两个波谷和两个波峰,
所述的施釉箱内的底板可为曲面底板或平面底板。
上述技术方案中,施釉箱内设有两个筛网卷筒,使釉流动均匀和消除气泡。
上述技术方案中,在半园辊筒的水平面一侧加工有一平直刀口;平直刀口可为各种角度,但其较为优选的角度是45度。
上述技术方案中,半圆辊筒及辊棒可为空心或实心;釉流过施釉箱内两个波谷和波峰,最后通过辊筒的刀口呈直线均匀平稳地溢流到砖面上。
上述技术方案中,在施釉箱内装有自动冲洗装置。
以下对上述零部件的功能及特征进行具体描述:
1.锥形加釉斗:外形尺寸:φ250*700mm高(下半部分为锥形),其作用是将泵上来的釉溢留到施釉箱内,多余的釉回流到釉桶内。
2.筛网卷筒:外形尺寸:φ80*1000mm,其作用是使釉流动均匀和消除气泡。
3.施釉箱:外形尺寸:(长)1000*(宽)1000*(高)400mm,由侧板,曲线底板和半圆辊筒组成。曲线底板由不锈钢板冲压而成;半园辊筒φ155(半园)*1000mm,辊筒的水平面一侧加工有一道45度的直线刀口。曲线底板和半园辊筒组成两个波谷和波峰。
4、机架:外形尺寸:(长)1300*(宽)1172*(高)1170mm,由40*80方管焊成,四脚可调节高低。
5.自动冲洗装置:施釉箱内设有两根φ25*1000mm的喷水管,每根管上装有9个高压喷水嘴。清洗时喷水管可往复摆动。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型彻底解决了施釉不均匀的问题,淋釉的均匀性和稳定性得到很好的控制,无波纹、滴漏、气泡等现象,由于是直线施釉,产品的边缘部分和其它部分厚薄一致,解决了钟罩淋釉边缘部分较厚的问题,操作简单,且配置有自动控制装置,在国内属首创,填补了我国陶瓷行业的一项空白。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为图1的右视图;
图3为图1的俯视图;
图4为的半园辊筒结构示意图;
图5为本实用新型的原理示意图。
具体实施方式
以下结合说明书附图来对本实用新型作进一步的描述,但本实用新型所要求保护的范围并不局限于实施方式所描述之范围。
图1为本实用新型的结构示意图;图2为图1的右视图;图3为图1的俯视图;图4为半园辊筒的结构示意图;图5为本实用新型的原理示意图。
如图1~3所示:
流体超平膜机,包括锥形漏斗1,筛网卷筒2,施釉箱3,机架4,及自动冲洗系统5。锥形漏斗位于施釉箱的前上方,由独立的立柱支承;筛网卷筒及冲洗水管位于施釉箱内,由施釉箱的侧板支承;冲洗水管由齿条齿轮带动可往复摆动。机架用于支承施釉箱。
本实用新型装置的工艺流程如下:
釉被泵到锥形加釉斗,然后溢流到施釉箱的前部。再向前流过由不锈钢板压成的曲线底板和半圆辊棒组成的的两个波谷和两个波峰后,最后经半园辊筒的45度直线刀口均匀平稳地溢流到砖面上。辊筒及其刀口严格按照制定的科学工艺流程加工,尺寸精确,形状稳定,表面光亮如镜,为均匀施釉提供有力的保证。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型彻底解决了施釉不均匀的问题,淋釉的稳定性得到很好的控制,无波纹、波状、滴漏、气泡等现象,由于是直线施釉,产品的边缘部分和其它部分厚薄一致,解决了钟罩淋釉边缘部分较厚的问题,操作简单方便,且有自动操作装置,在国内属首创,填补了我国陶瓷行业的一项空白。
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