[实用新型]新型抗反射导电膜

权利要求书

1、新型抗反射导电膜，其特征在于所述抗反射导电膜附着在透明基材(S)上，所述抗反射导电膜是至少包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)和透明导电膜(T)，所述高折射率层(H)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料，所述低折射率层(L)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.4-1.5膜层材料，所述透明导电膜(T)指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.85-1.95具有弱吸收的膜层材料，而且所述抗反射导电膜的结构是以下七种膜结构中的一种：

第一种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/H/S/H/L/T型；

第二种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，低折射率层(L)，高折射率层(H)，低折射率层(L)，且在透明基材(S)的一面的最外层为透明导电膜(T)，这种排列形式的膜结构记录为(L/H)²/S/(H/L)²/T型；组成这种9层复合膜的各膜层的厚度依次为：低折射率层(L)80-120nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)5-40nm，高折射率层(H)5-30nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)5-40nm，高折射率层(H)5-30nm，低折射率层(L)50-90nm，透明导电膜(T)5-40nm；

第三种膜的排列结构中还包含中折射率(M)，所述的中折射率层(M)是指波长在530nm-570nm时，折射率指数在1.6-1.7的膜层材料；第三种膜结构的特征在于：在透明基材(S)的两面由靠近透明基材(S)向外依次为高折射率层(H)，中折射率层(M)，低折射率层(L)，其中一面的最外层为透明导电膜(T)；高折射率层(H)的厚度在5nm至30nm之间，低折射率层(L)的厚度在60nm至120nm之间，中折射率层(M)的厚度在5nm至40nm之间，透明导电膜(T)的厚度在5nm至40nm之间，这种排列形式的膜结构记录为L/M/H/S/H/M/L/T型。

2、根据权利要求1所述抗反射导电膜，其特征在于所述透明基材(S)为玻璃或光学塑料，特别是光学玻璃，或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、或聚碳酸酯(PC)、或聚对苯二甲酸乙醇酯(PET)，在波长380nm-780nm范围内为透明，其折射率要求为1.40-1.70。

3、根据权利要求1所述抗反射导电膜，其特征在于所述高折射率层(H)在波长380nm-780nm范围内透明无吸收。

4、根据权利要求1所述抗反射导电膜，其特征在于所述低折射率层(L)在波长380nm-780nm范围内透明无吸收。

5、根据权利要求1所述抗反射导电膜膜，其特征在于所述中折射率层(M)其在波长380nm-780nm范围内透明无吸收。

6、根据权利要求1所述抗反射导电膜，其特征在于透明导电膜(T)是下列氧化物中的一种或者是它们之间的混合物，所述氧化物是指：氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnO₂)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)、掺氟氧化锡(SnO₂:F)、掺砷氧化锡(SnO₂:Sb)、掺铝氧化锌(ZnO:Al)、氧化铟锌(In₂O₃:ZnO)、氧化锡锌(SnO₂:ZnO)以及氧化铟镁(In₂O₃:MgO)。