[实用新型]瓷质纳米抛光砖生产中的纳米导入反应器无效
申请号: | 200720047337.3 | 申请日: | 2007-01-12 |
公开(公告)号: | CN200995436Y | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 叶荣崧;陈耀强;王常德 | 申请(专利权)人: | 叶荣崧 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人: | 梁国杰 |
地址: | 528222广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 抛光 生产 中的 导入 反应器 | ||
技术领域:
本实用新型涉及瓷砖生产加工设备领域,特指一种瓷质纳米抛光砖生产中的纳米导入反应器。
背景技术:
瓷质纳米抛光砖生产中,纳米无机硅液体要喷洒到瓷质抛光砖表面,然后在高温炉中高温加热并结晶形成纳米晶体与瓷砖硅融为一体从而得到高光洁度、高耐磨性、高硬度,又持久防污的瓷质纳米抛光砖,现有瓷砖生产加工设备中,没有专门的纳米反应导入器,如果人工导入,势必会造成喷洒不均匀、纳米无机硅液体浪费及污染等现象发生。
发明内容:
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足之处,提供一种结构合理、无污染、无浪费的瓷质纳米抛光砖生产中的纳米导入反应器。
为实现上述目的,本实用新型提供的技术方案为:包括有纳米无机硅液体盛放容器、纳米无机硅液体与抛光砖反应箱、板式抛光砖输送带,纳米无机硅液体盛放容器通过导管连接有喷洒头,该喷洒头通过支架固定在纳米无机硅液体与抛光砖反应箱内,板式抛光砖输送带对应位于喷洒头的下方,板式抛光砖输送带的下方设有液体收集槽,该收集槽通过管路与箱外的纳米无机硅液体盛放容器相通,在该管路上设有压力水泵,于纳米无机硅液体与抛光砖反应箱的净化空气入口处设有空气滤网。
本实用新型用液压泵将纳米无机硅液体泵到喷头处,再经高压空气通过喷洒头使之雾化,均匀地喷洒到瓷质抛光砖的表面,可得到成品率较高的瓷质纳米抛光砖,同时溶液收集槽将多余的液体回收,通过液压泵再次泵入纳米无机硅液体盛放容器又可循环再利用,避免浪费及污染。
附图说明:
附图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图对本实用新型做进一步的描述,见附图1所示,本实用新型的较佳实施例由纳米无机硅液体盛放容器1、纳米无机硅液体与抛光砖反应箱2、板式抛光砖输送带3、一个或一个以上φ0.2MM的喷洒头4、液体收集槽5、压力水泵6、净化空气入口7、空气滤网8组成,纳米无机硅液体盛放容器1通过导管与喷洒头4连接,在该纳米无机硅液体盛放容器1的密闭空间内,外界灰尘等污染物质不能进入反应器中,确保了纳米无机硅液体不会受到污染,该喷洒头4通过支架固定在纳米无机硅液体与抛光砖反应箱2内,板式抛光砖输送带3对应位于喷洒头4的下方,喷洒时每次每片砖可喷洒20-40g,其喷洒量可通过开关调节,板式抛光砖输送带3的下方设有液体收集槽5,该收集槽通过管路与箱外的纳米无机硅液体盛放容器1相通,在该管路上设有压力水泵6,经喷洒的纳米无机硅液体,一部分喷到瓷质抛光砖砖面上,进入纳米反应工序中,没有喷到砖面上的多余纳米无机硅液体则进入液体收集槽5中,经过过滤等工序处理后,又可循环再利用。本实用新型于纳米无机硅液体与抛光砖反应箱2的净化空气入口7处设有空气滤网8,通过滤网过滤后使纳米无机硅液体与抛光砖反应箱2内到达适于反应的恒温恒湿环境。
以上所述之实施例只为本实用新型的较佳实施例,并非以此限制本实用新型的实施范围,故凡依本实用新型之形状、构造及原理所作的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围内。
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