[发明专利]液晶显示板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示板，更具体地说，涉及一种具有改进的颜色再现性的液晶显示板及其制造方法。

背景技术

通常，液晶显示装置(LCD)根据视频信号来控制液晶单元的光透射率，以使液晶单元在以矩阵形式排列的液晶显示板上，显示与该视频信号相对应的图像。为了实现这种操作，液晶显示装置(LCD)包括：液晶显示板，其中，液晶单元以有源矩阵(active matrix)形式排列；以及用于驱动该液晶显示板的驱动电路。

图1是示出传统液晶显示板90的剖面图。

如图1所示，液晶显示板90包括滤色器阵列基板70，其包括按照顺序形成在上基板2的上黑底(black matrix)4、滤色器6、公共电极18和上配向层8。液晶显示板90还包括薄膜晶体管阵列基板80，其包括设置在下基板32上的薄膜晶体管7、像素电极16和下配向层38。液晶显示板90还包括插设在滤色器阵列基板70和薄膜晶体管阵列基板80之间空间内的液晶52。

在滤色器阵列基板70中，黑底4用于防止光泄漏，并通过吸收外部光来提高对比度(contrast)。滤色器6包括红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)滤色器，其分别产生(render)红色、绿色、蓝色。公共电极18接收公共电压，以控制液晶的运动。间隔物13用于保持滤色器阵列基板70和薄膜晶体管阵列基板80之间的单元间隙(cell gap)。

在薄膜晶体管阵列基板80中，薄膜晶体管7包括：与选通线(未示出)一起设置在下基板32上的栅极9；与栅绝缘膜44下方的栅极9相交叠的半导体层14和47；以及与选通线(未示出)一起设置在半导体层14和47之间的源极40和漏极42。薄膜晶体管7响应于通过选通线的扫描信号，通过数据线向像素电极16提供像素信号。像素电极16由具有高光透射率的透明导电材料制成，并通过钝化膜(passivation film)50与薄膜晶体管7的漏极42相接触。通过采用诸如聚酰亚胺的配向材料并随后进行摩擦(rubbing)，来形成使得能够进行液晶的配向的上配向层8和下配向层38。

图2A到图2F是顺序地示出制造传统液晶显示板的滤色器阵列基板的方法的剖面图。

首先，如图2A所示，通过诸如溅射(sputtering)的淀积，将不透明树脂施加到上基板2上，然后使用第一掩模通过光刻和蚀刻(etching)工艺对其进行构图，以形成黑底4。黑底4可以由诸如铬(Cr)的材料组成。

如图2B所示，将红色树脂淀积在包括黑底4的上基板2上，然后使用第二掩模通过光刻和蚀刻工艺对其进行构图，以形成红色滤色器R。

如图2C所示，将绿色树脂淀积在包括所得到的结构的上基板2上，然后使用第三掩模通过光刻和蚀刻工艺对其进行构图，以形成绿色滤色器G。如图2D所示，将蓝色树脂淀积在包括所得到的结构的上基板2上，然后使用第四掩模通过光刻和蚀刻工艺进行构图，以形成蓝色滤色器B。结果，形成了红色、绿色、蓝色滤色器6。

如图2E所示，将透明导电材料淀积在包括红色、绿色、蓝色滤色器的上基板2的整个表面上，以形成公共电极18。

如图2F所示，将有机或无机绝缘材料淀积在包括公共电极18的上基板2上，然后使用第五掩模通过光刻和蚀刻工艺对其进行构图，以形成柱状间隔物13。

这样，制造传统液晶显示板90的滤色器阵列基板70至少需要5个掩模工艺。每一个掩模工艺都包括光刻工艺，该光刻工艺是涉及包括光刻胶的施加、掩模的对准、曝光和显影的一系列步骤的照相(photographic)工艺。该光刻工艺需要较长的处理时间，对用于对光刻胶进行显影和构图的显影溶液有非常高的消耗，并需要诸如曝光设备等的昂贵设备，因此，导致液晶显示板的制造工艺复杂而且昂贵。

发明内容

因此，本发明致力于一种液晶显示板及其制造方法，其能够消除由于现有技术的限制和缺陷而导致的一个或多个问题。

本发明的目的在于提供一种液晶显示(LCD)板及其制造方法，该液晶显示板能够在表现出经改进的颜色再现性并由此表现出优异的图像质量的同时，降低制造成本。

本发明的其它优点、目的和特征将在随后的说明中部分地进行阐述，并且对于本领域的技术人员，将在对以下说明进行研究时而部分地变得清楚，或者可以通过实施本发明的实施方式而获知。本发明的这些目的和其它优点可以通过在说明书及其权利要求书以及附图中具体指出的结构来实现并获得。