[发明专利]透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材

说明书

技术领域

本发明涉及新的透明被膜形成用涂料及带有使用该透明被膜形成用涂料形成的透明被膜的基材。

背景技术

一直以来，为了防止玻璃、塑料片、塑料透镜等基材表面的反射，已知在基材表面形成防反射膜的方法，例如已知通过涂覆法、蒸镀法、CVD法等在玻璃或塑料的基材表面形成如含氟树脂、氟化镁等低折射率的物质的被膜，或者将含二氧化硅微粒等低折射率微粒的涂布液涂布于基材表面，从而形成防反射被膜的方法(例如参照日本专利特开平7-133105号公报)。目前，还已知为了提高防反射性能而在防反射被膜的下层形成含高折射率的微粒的高折射率膜的方法。

另外，对于前述显示装置等，还已知为了赋予防眩性而在表面形成凹凸的方法。(日本专利特开2002-169001号公报、日本专利特开2002-71904号公报、日本专利特开2001-281411号公报、日本专利特开2001-34350号公报)

然而，以往的形成多层膜的方法中，对于各涂料必须进行涂布涂料、干燥并根据需要使其固化的工序，各膜间的密合性不足，或者在生产性、经济性方面存在问题。

此外，本申请发明者在日本专利特开2003-12965号公报中提出，通过使用含平均粒径不同的2种微粒的涂布液，即含粒径小的导电性微粒和粒径大的低折射率微粒的涂布液，可以通过1次涂布形成防反射性能良好的导电性被膜。然而，通过该方法可能会无法以2种微粒上下完全分离的形态形成微粒层，而且不具有防眩性能，因此亮室对比度低，用于显示装置的情况下，显示性能不足。

专利文献1：日本专利特开平7-133105号公报

专利文献2：日本专利特开2002-169001号公报

专利文献3：日本专利特开2002-71904号公报

专利文献4：日本专利特开2001-281411号公报

专利文献5：日本专利特开2001-34350号公报

专利文献6：日本专利特开2003-12965号公报

发明内容

鉴于这样的情况，希望提供可以通过将透明被膜形成用涂料1次涂布并干燥而形成与基材的密合性、强度等良好的同时，防反射性能和防眩性能良好，且生产性和经济性也良好的透明被膜的透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材。

本发明者鉴于这样的问题认真研究后结果发现，如果将含与基体形成成分的亲和性互不相同且平均粒径不同的2种粒子的涂料涂布并干燥，被膜中2种粒子上下分离，即经表面处理的微细粒子集中存在于透明被膜的上部，经表面处理的较大的粒子集中存在于透明被膜的下部，而且可以在被膜的表面形成凹凸，从而完成了本发明。

[1]透明被膜形成涂料，它是由与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成的透明被膜形成涂料，其特征在于，低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理，经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(n_A)在1.20～1.45的范围内，平均粒径在5～200nm的范围内，表面电荷量(Q_A)在5～80μeq/g的范围内，经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(n_B)比(n_A)高，平均粒径在0.5～5μm的范围内，表面电荷量(Q_B)在25～100μeq/g的范围内，低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1～10重量％的范围内，基体形成成分的以固体成分计的浓度在1～30重量％的范围内。

[2]如[1]的透明被膜形成涂料，其中，前述低折射率微粒(A)的表面电荷量(Q_A)和前述高折射率微粒(B)的表面电荷量(Q_B)的差(Q_B)-(Q_A)在20～95μeq/g的范围内。

[3]如[1]或[2]的透明被膜形成涂料，其中，前述基体形成成分由亲水性基体形成成分和疏水性基体形成成分形成，亲水性基体形成成分的以固体成分计的浓度(C_MA)和疏水性基体形成成分的以固体成分计的浓度(C_MB)的浓度比(C_MA)/(C_MB)在0.01～1的范围内。

[4]如[3]的透明被膜形成涂料，其中，前述亲水性基体形成成分为以下述式(1)表示的有机硅化合物或它们的水解产物、水解缩聚物和/或具有亲水性官能团的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂，