[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于：

前述投影光学系统包括至少2片反射镜、第1面侧的面具有正的折射力的边界透镜；

当使前述投影光学系统的光路中的环境的折射率为1时，前述边界透镜和前述第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的媒质充满；

构成前述投影光学系统的所有的透射构件及具有折射力的所有的反射构件沿单一的光轴进行配置；

前述投影光学系统具有不含有前述光轴的设定形状的有效成像区域，

并且前述有效成像区域具有圆弧形状，当使规定前述有效成像区域的圆弧的曲率半径的大小为R，前述第2面上的最大像高为Y0时，满足：

1.05＜R/Y0＜12的条件。

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述至少2片反射镜具有至少1个凹面反射镜。

3.根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有偶数个反射镜。

4.根据权利要求3所述的投影光学系统，其特征在于：前述偶数个反射镜是由仅两个镜所构成。

5.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统的射出瞳不具有遮蔽区域。

6.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有的所有的有效成像区域存在于从前述光轴离开的区域中。

7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统包括具有至少2个反射镜并用于形成前述第1面的中间像的第1成像光学系统、用于根据来自前述中间像的光束而在前述第2面上形成最终像的第2成像光学系统。

8.根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1成像光学系统包括具有正的折射力的第1透镜群、在该第1透镜群和前述中间像的光路中配置的第1反射镜以及在该第1反射镜和前述中间像的光路中配置的第2反射镜。

9.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于：

前述第1反射镜为配置于前述第1成像光学系统的瞳面附近的凹面反射镜；

在前述凹面反射镜所形成的往返光路中至少配置有1个负透镜。

10.根据权利要求9所述的投影光学系统，其特征在于：在前述往返光路中所配置的前述至少1个负透镜及前述边界透镜由萤石形成。

11.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于：

在使前述第1透镜群的焦点距离为F1，前述第2面上的最大像高为Y0时，满足

5＜F1/Y0＜15的条件。

12.根据权利要求9所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1透镜群具有至少2个正透镜。

13.根据权利要求12所述的投影光学系统，其特征在于：前述第2成像光学系统为只由复数个透射构件构成的折射光学系统。

14.根据权利要求12所述的投影光学系统，其特征在于：构成前述第2成像光学系统的透射构件的数目的70％以上的数目的透射构件由石英形成。

15.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于还包括配置在前述边界透镜与前述第2面之间的光路中，大致上无折射力的光透射性光学构件。

16.一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于：

具有至少2片的反射镜和透射构件，且具有不包含前述投影光学系统的光轴的圆弧形状的有效成像区域，

当使规定前述有效成像区域的圆弧的曲率半径的大小为R，前述第2面上的最大像高为Y0时，满足

1.05＜R/Y0＜12的条件。

17.根据权利要求16所述的投影光学系统，其特征在于：具有在前述边界透镜和前述第2面间的光路中所配置的，大致无折射力的光透射性光学构件。