[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于：

构成前述投影光学系统的所有的透射构件及具有折射力的所有的反射构件沿单一的光轴进行配置；

前述投影光学系统具有不含有前述光轴的设定形状的有效成像区域，并包括：

包含2个反射镜，并形成前述第1面的中间像的第1成像光学系统，

将前述中间像形成在前述第2面上的第2成像光学系统；

其中，

前述第2成像光学系统从前述中间像侧沿光线通过的顺序，具有

凹面形状的第1场反射镜、

第2场反射镜、

含有至少2个负透镜，并具有负的折射力的第1透镜群、

具有正的折射力的第2透镜群、

孔径光阑、

包含在第1面侧的面具有正的折射力的边界透镜，并具有正的折射力的第3透镜，

当使前述投影光学系统的光路中的环境的折射率为1时，前述边界透镜和前述第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的媒质充满。

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述至少2片反射镜具有至少1个凹面反射镜。

3.根据权利要求2所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有偶数个反射镜。

4.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：

前述第1成像光学系统包括：具有正的折射力的第4透镜群、负透镜、凹面反射镜、光路分离镜；

采用在前述第1成像光学系统中行进的光，透射了前述第4透镜群及前述负透镜后，由前述凹面反射镜被反射，并再次透过前述负透镜而被导向前述光路分离镜，且由前述光路分离镜被反射的光，由前述第1场反射镜及前述第2场反射镜被反射后，直接入射前述第2成像光学系统中的前述第1透镜群的构成。

5.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统的射出瞳不具有遮蔽区域。

6.根据权利要求5所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有的所有的有效成像区域存在于从前述光轴离开的区域中。

7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于还包含至少一个瞳位置，且在至少一个瞳位置中最靠近第2面侧瞳位置与前述第2面之间的光路所配置的透镜为正透镜。

8.一种投影光学系统，为一种将第1面的像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于，包括：

含有2个反射镜并形成前述第1面的中间像的第1成像光学系统、

将前述中间像形成在前述第2面上的第2成像光学系统；

其中，

前述第2成像光学系统按照光线从前述中间像侧通过的顺序，配置

凹面形状的第1场反射镜、

第2场反射镜、

含有至少2个负透镜，并具有负的折射力的第1透镜群、

具有正的折射力的第2透镜群、

孔径光阑、

具有正的折射力的第3透镜群。

9.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于：

前述第1成像光学系统包括：具有正的折射力的第4透镜群、负透镜、凹面反射镜、光路分离镜；

采用在前述第1成像光学系统中行进的光，透射了前述第4透镜群及前述负透镜后，由前述凹面反射镜被反射，并再次透过前述负透镜而被导向前述光路分离镜，且由前述光路分离镜被反射的光，由前述第1场反射镜及前述第2场反射镜被反射后，直接入射前述第2成像光学系统中的前述第1透镜群构成。

10.根据权利要求9所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1场反射镜使入射该第1场反射镜的光，沿朝向该反射折射型的投影光学系统的光轴的方向弯曲并射出。

11.根据权利要求10所述的投影光学系统，其特征在于：前述第2场反射镜具有凸面形状。

12.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1成像光学系统中所包含的前述2个反射镜，按照来自前述第1面的光入射的顺序，为凹面形状的反射镜、凸面形状的反射镜；前述第2成像光学系统中所含有的前述第2场反射镜为凸面形状的反射镜。