[发明专利]高熔点化合物的去除方法和装置、溶剂回收方法和溶剂回收装置有效
| 申请号: | 200710305778.3 | 申请日: | 2007-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN101235159A | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
| 发明(设计)人: | 水岛康博;坂牧聪 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | C08J11/02 | 分类号: | C08J11/02;C08J5/18 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 张成新 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 熔点 化合物 去除 方法 装置 溶剂回收 | ||
发明领域
本发明涉及一种高熔点化合物的去除方法和装置,一种溶剂回收方法和一种溶剂回收装置。尤其是,本发明涉及一种高熔点化合物的去除方法和装置,一种溶剂回收方法和一种溶剂回收装置,在这些方法和装置的每一种中,高熔点化合物包含在用于溶液流延法的溶剂去除生产线的洗涤废液中。
背景技术
聚合物膜(以下称为膜)具有优良的光学透明度和柔韧性,并允许其厚度和重量的减少。因此,聚合物膜被用作不同的光学功能膜。尤其是,纤维素酯膜如酰化纤维素膜由于具有韧性、低双折射性、低延迟和低成本,而被用作液晶显示器(LCD)偏振板的保护膜、光学补偿膜、抗反射膜、宽视角膜等等。
作为制造膜的方法,有熔体挤出法和溶液流延法。熔体挤出法具有生产装置的产率高而成本低的优点,原因在于聚合物被熔融后从挤出机挤出生产膜。但是,在这种方法中,膜厚度的精度低,而且膜上产生微小的条纹(模线)。因此,难于生产出具有足以用作光学功能膜的高质量的膜。相反,在溶液流延法中,将聚合物溶解到溶剂中,制备聚合物溶液(涂料),并且将涂料被流延在移动载体上形成流延膜。在具有自支撑性能后,将流延膜以湿膜的形式被从载体上剥离,并且干燥以形成膜。这种方法制得的膜在光学各向同性和厚度的均匀性上更优异,而且比熔体挤出法得到的膜含有更少的杂质粒子。基于上述原因,大多数的光学功能膜通过溶液流延法制得。
在溶液流延法中,聚合物溶液(以下称为涂料)通过在含有二氯甲烷、乙酸甲酯等作为主溶剂的溶剂混合物中溶解聚合物如三乙酸纤维素制备而成。某些添加剂被混合在涂料中以制备流延涂料。将流延涂料从流延模中流延到载体如流延转鼓,环形带等上以形成流延膜(以下称为流延过程)。流延模和载体间的流延涂料被称为流延流道(bead)。将流延膜在载体上干燥和冷却以得到自支撑性能。之后,将流延膜作为湿膜从载体上剥离。将湿膜干燥以形成膜(以下称为干燥过程)。最后,将膜卷绕成卷。
在干燥过程中,湿膜中含有的溶剂在干燥室内气化。为使溶剂在干燥室的气氛中气化的性能恒定地保持,干燥室内的气氛中含有的气相溶剂需要被定期回收。
磷酸三苯酯(TPP)是用于三乙酸纤维素膜的代表性的添加剂,作为增塑剂以将阻燃性、透明度、防水性和不粘性施加给膜。尽管TPP具有高的沸点(399℃),其仍有一部分在干燥过程与溶剂一起蒸发。因此,在溶剂去除生产线的冷却过程中,与液化溶剂一起产生TPP的沉淀物。TPP在溶剂去除生产线上的沉淀物可能会粘结在用于冷却过程的冷却设备和管道上,这导致溶剂去除生产线的处理性能的劣化。考虑到这一问题,日本专利公开出版物No.2003-165866除了使用溶剂去除产生线外,还使用了清洁生产线。清洁生产线定期用热水等清洁冷却设备和管道,以便可以除去沉淀在溶剂去除生产线上的添加剂。
附带地,尽管纤维素酯膜的延迟值在塑料膜中是低的,但其仍然比其它光学材料如无机玻璃(例如石英玻璃)高得多。因此,液晶显示器的生产商渴望进一步降低用作光学功能膜的聚合物膜的延迟。经过深入的研究,本发明人和申请人发现,当向用于溶液流延法的涂料中添加特殊的化合物时,获得了延迟极低的膜。
但是,当将包括这种特殊化合物(以下称为延迟降低剂)的涂料用于溶液流延法时,在溶剂去除生产线中,回收包含有在干燥室内与溶剂一起挥发的延迟降低剂的气体。在该过程中,延迟降低剂在溶剂去除生产线中沉淀在换热器上。沉淀物可能会堵塞溶剂去除生产线中的管道和过滤器。为了去除该沉淀物,需要采用清洗液等。作为清洗液,水因其易于处理而优选使用。但是,由于延迟降低剂的熔点高于水的沸点,热水不能将沉淀物去除。因此,为了熔化沉淀物,使用至少100℃的热风。当热风被送入包含有冷却水等也流过的管道的换热器时,溶剂去除生产线需要暂时停止,以防止管道的破裂。所以,在该方法中,膜的生产效率降低而膜的生产成本增加。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种用于制备低延迟膜的高熔点添加剂的去除方法和去除设备,以及一种溶剂回收方法和溶剂回收装置。
为达到上述及其它目的,本发明的高熔点化合物去除方法包括下列步骤。首先,制备温度低于高熔点化合物的熔点MP1而高于低熔点化合物的熔点MP2的清洗液。然后,将清洗液与混合有不同熔点化合物的气体中的高熔点化合物接触。
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