[发明专利]使用X射线制造等离子体显示面板的下面板的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种等离子体显示面板的下面板的制造方法，更具体地，涉及等离子体显示面板的下面板的制造方法，其中可以以高精度实现阻挡肋的精细间距构图。

背景技术

等离子体显示面板(PDP)是通过使用紫外(UV)光线激励磷而产生图像的平板显示设备，紫外光线是当上基板和下基板之间形成的维持电极之间出现放电时产生的。

图1是示出常规交流(AC)驱动型表面放电PDP的示意图。参考图1，多个寻址电极22和下介电层21布置在下基板20上，使得寻址电极22埋藏在下介电层21内。阻挡肋24界定布置在下介电层21上的多个放电空间G并且将放电空间G作为单独的发光区而界定。放电空间G被涂覆以红、绿、和蓝RGB磷光体25。RGB磷光体25被通过等离子体放电产生的紫外光线激励从而产生可见光，并且所述RGB磷光体25布置在放电空间G内并且被操纵从而产生静态或动态的图像。

上介电层11和保护层15布置在上基板10上，从而覆盖布置在上基板10上的扫描和维持电极对16。上介电层11积聚等离子体放电的壁电荷，并且保护层15保护维持电极对16和上介电层11不受到等离子体放电的气态离子的溅射，并且同时增加次级电子的发射效率。例如He、Xe或Ne的惰性气体以大约400至600Torr的压力填充PDP的放电空间G。

阻挡肋24可以以敞开型条形图案形成，如同在图1中所示出的，或为了更有效地放电而以封闭型图案形成。阻挡肋24起保持上基板10和下基板20之间的预定距离并且界定放电空间G的作用。阻挡肋24避免放电空间G之间的电或光串扰以便提高图像质量(包括色纯度)并且提供涂覆磷光体25的区以便贡献于PDP的发光亮度。同时，阻挡肋24确定像素的尺寸，这是由具有RGB格式的放电空间G构成的图像的最小单位，并且通过界定放电空间G之间的单元间距而确定图像的分辨率。因而，阻挡肋24影响图像质量和发光效率。随着面板的尺寸增加并且提供更高清晰度的图像，已经进行了许多阻挡肋的研究。

通常，阻挡肋通过丝网印刷、喷沙、蚀刻、使用光敏膏的光刻等制造。其中，使用光敏膏的光刻如下所述进行。首先，包含陶瓷阻挡肋材料的光敏膏涂覆在基板上并且被干燥从而获得具有希望厚度的膜。然后，光敏膏通过对齐的光掩模而选择性地暴露于UV光线，并且使用显影器显影从而去除未固化(uncured)的部分。最终，烧结完成的结构，由此完成阻挡肋。在曝光于UV光线期间，通过聚合反应固化曝光于UV光线的光敏膏部分，从而形成阻挡肋，而被光掩模屏蔽的光敏膏的残留部分未被固化，而是在显影期间被分解和去除。

光敏膏可以包括无机微颗粒和有机材料。UV光线可以在无机微颗粒和有机材料之间的界面上散射，并且因而在相邻于目标光敏膏部分的光敏膏部分可以出现光固化。此外，由于沿UV光线的光路出现的光散射，提供到光敏膏的靠近底部的部分(或者图1中最靠近下介电层21的光敏膏的部分)的UV光线的量可能不足以固化靠近底部的部分光敏膏。这样，如同在图1中所示出的，阻挡肋24在底部比顶部宽。当增加UV光线的强度以便增加UV光线的穿透深度时，散射光线的强度也增加。

发明内容

本发明的一方面提供了一种制造等离子体显示器(PDP)的下面板的方法，其中可以使用X射线实现高精度的阻挡肋的精细间距构图。

根据本发明的一个方面，提供了一种制造PDP的下面板的方法，所述方法包括：提供基底基板；在基底基板上形成阻挡肋材料层；通过在阻挡肋材料层上扫描X射线而界定阻挡肋图案；并且显影阻挡肋材料层从而形成阻挡肋。

根据本发明的另一方面，提供了一种PDP的下面板的制造方法，所述方法包括：在基底基板上形成第一厚度的第一阻挡肋材料层；通过在第一阻挡肋材料层上扫描X射线而界定第一阻挡肋图案；在第一阻挡肋材料层上形成第二厚度的第二阻挡肋材料层；在第一和第二阻挡肋材料层上通过扫描X射线而界定第二阻挡肋图案；并且显影第一和第二阻挡肋材料层，从而形成具有不同高度的阻挡肋。

本发明的其它方面和/或优点将在下列描述中部分提出，并且从下列描述中部分显见，或者可以通过本发明的实践而学得。

附图说明

结合附图，从本发明的实施例的下列描述中，本发明的这些和/或其它方面和优点将变得更为显见和更容易理解，其中：

图1是示出常规等离子体显示面板PDP的分解透视图；

图2是示出根据本发明多个方面的PDP的下面板的制造方法的流程图；

图3A至3E是示出图2的方法的详细工艺的垂直截面图；