[发明专利]一种具有耐腐蚀膜的稀土永磁体的制造方法有效
申请号: | 200710303972.8 | 申请日: | 2007-12-24 |
公开(公告)号: | CN101469428A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 王湛;饶晓雷;王浩颉;胡伯平 | 申请(专利权)人: | 北京中科三环高技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 付晓青;李广文 |
地址: | 100080北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 腐蚀 稀土 永磁体 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种稀土永磁体的制造方法,具体地说,涉及一种具 有耐腐蚀膜的稀土永磁体的制造方法。
背景技术
目前行业内离子镀铝的专利都是解决无压力状态下的湿热环境 下的耐腐蚀问题。对于高压湿热试验的耐腐蚀性能并没有做过细致研 究。例如:中国专利申请号为99800747.1、其发明名称为“耐腐蚀性 永磁体及其制造方法”;中国专利申请号为96192129.3、其发明名称 为“用于超高真空的永磁体及其制造方法”;中国专利申请号为 97198134.5、其发明名称为“耐蚀永磁体及其制备方法”,以及中国 专利申请号为99118337.1、其发明名称为“具有耐腐蚀膜的铁-硼-稀 土基永磁体及其制造工艺”均公开了一种解决无压力状态下的湿热环 境下的耐腐蚀问题。
此外,中国专利申请号为200410098355.1采用了电弧蒸发和电 场加速两种技术,但是这只能是一种技术的简单改进,可以提高粒子 能量,从而提高镀膜的结合力。但是电弧技术属于离子镀技术的一种, 其主要原理是在通过弧光放电技术轰击固定靶材,从而产生离子沉积 在工件表面。但是这种技术最大的缺点是容易在镀层表面产生大的液 滴颗粒。这些大颗粒不仅仅对产品外观产生不利影响,同时这些大颗 粒位置将会成为镀层被腐蚀的缺陷区域。因此,这种技术对于小件钕 铁硼产品并不适用。因此,该现有技术中提到的第三实施例中只是对 于电弧蒸发粒子提供了一种加速电场,并且主要作用提高粒子能量, 可以认为是电弧蒸发技术的改进。对于电弧蒸发的电流采取方波函 数,力图降低电弧技术产生液滴的数量,是对于蒸发过程的一种调整。 该现有技术并不具有重复性。因此,急需解决在高压、湿热条件下具 有耐腐蚀性能的产品。
发明内容
本发明正是为了解决上述问题而提出的。本发明的发明目的是提 供一种具有耐腐蚀膜的稀土永磁体的制造方法,所述制造方法包括如 下步骤:
(1)对稀土永磁体工件的表面施以喷砂处理;
(2)对喷砂过的永磁体工件进行抽真空,在惰性气体下利用离子 源对磁体进行离子化轰击;
(3)离子化轰击后,在真空条件下,对铝材进行蒸发,将蒸发源 垂直方向匀速往复运动;并且在蒸发过程中同时开启电弧电源轰击铬 靶材,在装载工件和真空室金属外壳炉体上加载一定的轰偏电压,形 成离子流,使铝材蒸发的铝蒸汽离子化,以使永磁体工件的表面形成 镀层沉积。
其中,在喷砂过程中,喷砂磨料为60~150目,压缩空气为 0.3~0.7Mpa。
其中,对喷砂过的永磁体工件进行抽真空至3×10-3Pa。
其中,所述惰性气体包括氩气、氮气、氖气。
其中,在轰击功率≤2kw条件下进行离子源轰击。最好,开启离 子源对磁体离子化轰击15~30分钟,离子源电源功率为1~2kw。
其中,在蒸发过程中真空度为0.1Pa~3.0Pa。
其中,其中,在蒸发时,蒸发源在垂直方向匀速往复运动,且蒸 发距离是变化范围在0~20mm,速度调整范围在1~10mm/min。最好, 在蒸发过程中同时开启电弧电源轰击铬靶块,其轰击电流设置为 100A。
其中,在所述蒸发源下方加入可传动的机械部分,该可传动的机 械部分是在蒸发源下方加入一个一个齿轮链条连接一个微型电机,通 过电机带动齿轮运动从而带动蒸发源在垂直方向往复运动,并可以通 过调整电机功率调节齿轮传动速度,实现蒸发源速度的可调。
其中,所述轰偏电压为方波函数。
在本发明如上所述的方法中,该方法的整个工艺流程是:喷砂- 抽真空-离子轰击-蒸发铝-同时加载方波电压及热弧Cr靶材轰击 两种离子化工艺提高蒸发中铝金属的离子化率达到提高镀层结合力 的效果,并因此改善了产品在高压、湿热条件下的耐腐蚀性能。
下面将说明本发明的工艺过程中的改进部分。
1、喷砂是材料镀膜的前处理工序过程。
传统的喷砂是一个通用技术,应用范围广泛,主要用于钢铁材料, 其对于磨料的使用(包括磨料类别和磨料尺寸)并没有特别的技术参 数和相关专利。
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