[发明专利]光场调节装置及采用该光场调节装置的照明装置无效
| 申请号： | 200710203089.1 | 申请日： | 2007-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN101457901A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 郑伊凯;陈志隆;赖志铭 | 申请（专利权）人： | 富士迈半导体精密工业（上海）有限公司;沛鑫半导体工业股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V5/04 | 分类号： | F21V5/04;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201600上海市松江区松*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 调节 装置 采用 照明 | ||
10.1.一种光场调节装置，其包括多个透镜单元，每个透镜单元包括一个入光面、一个与该入光面相对的出光面、一个第一端面以及一个与该第一端面相对的第二端面，该第一端面与该第二端面分别连接该入光面与该出光面，该每个透镜单元的第一端面贴附在与该透镜单元相邻之透镜单元的第二端面上，从而形成一个透镜阵列，其特征在于，该入光面及该出光面中的一者为沿第一方向延伸的凸面，另一者为一凹面，该凹面沿一与第一方向垂直的第二方向延伸，该第一端面与该第二端面分别具有两条垂直于第一方向的第一边，且该每个透镜单元的第一端面的第一边的长度大于第二端面的第一边的长度。
2.如权利要求1所述的光场调节装置，其特征在于，该透镜单元的凹面上配置至少一沿第二方向延伸的条状微结构。
3.如权利要求1所述的光场调节装置，其特征在于，该凸面为柱状凸面，该凹面为柱状凹面。
4.如权利要求2所述的光场调节装置，其特征在于，该条状微结构为一个条状凸起。
5.如权利要求2所述的光场调节装置，其特征在于，该条状微结构为一个条状凹槽。
6.一种照明装置，包括：
至少一光源，用于发射光；
一个光场调节装置，其与至少一光源相对设置，该光场调节装置包括多个透镜单元，每个透镜单元包括一个入光面、一个与该入光面相对的出光面、一个第一端面以及一个与该第一端面相对的第二端面，该第一端面与该第二端面分别连接该入光面与该出光面，该每个透镜单元的第一端面贴附在与该透镜单元相邻之透镜单元的第二端面上，从而形成一个透镜阵列，该入光面及该出光面中的一者为沿第一方向延伸的凸面，另一者为一凹面，该凹面沿一与第一方向垂直的第二方向延伸，该第一端面与该第二端面分别具有两条垂直于第一方向的第一边，且该每个透镜单元的第一端面的第一边的长度大于第二端面的第一边的长度。
7.如权利要求6所述的照明装置，其特征在于，该光场调节装置是权利要求2-5中任意一项所述的光场调节装置。
8.如权利要求6所述的照明装置，其特征在于，该照明装置还包括一个反射板，该反射板包括多个沿第一方向设置且沿第二方向平行排列的梯形凹槽，该多个光源设置在该多个梯形凹槽的底部且形成多个线性光源阵列，每个梯形凹槽的侧壁用来反射设置在该梯形凹槽底部的光源所发出的光线。
9.如权利要求6所述的照明装置，其特征在于，该至少一光源设置为多个，该多个光源分别与该多个阵列排布的透镜单元相对。
10.如权利要求6所述的照明装置，其特征在于，该至少一光源为至少一LED光源。
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