[发明专利]一种光学元件及光学元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710202866.0 申请日: 2007-12-06
公开(公告)号: CN101452083A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 骆世平 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G03F7/00;C03B11/08;B29D11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学元件,其包括一透光基底,所述透光基底具有相对的第一表面和第二表面,其特征在于:所述第一表面设有一个第一光学部和遮光膜,所述遮光膜镀于所述第一表面,并围绕所述第一光学部的通光区,所述第二表面具有红外截止滤光膜,所述红外截止滤光膜表面对应所述第一光学部的位置设有第二光学部。

2.如权利要求1所述的光学元件,其特征在于:所述透光基底为透光率大于95%的光学玻璃。

3.一种光学元件的制造方法,包括以下步骤:

提供一透光基底,其包括相对的第一表面和第二表面;

在所述第一表面形成光阻层;

在所述第二表面形成红外截止滤光膜;

利用曝光显影的方法去除一部分光阻,使所述第一表面露出部分表面,成为非光学区;

在所述非光学区形成遮光膜;

去除残留的光阻,形成光学区;

利用压印模具在所述光学区压印成型第一光学部;

利用所述压印模具在所述红外截止滤光膜表面对应于所述第一光学部的位置压印成型第二光学部。

4.如权利要求3所述的光学元件的制造方法,其特征在于:利用裂缝涂布法或自转式涂布法形成所述光阻层。

5.如权利要求3所述的光学元件的制造方法,其特征在于:利用溅镀法形成遮光膜。

6.如权利要求3所述的光学元件的制造方法,其特征在于:利用蒸镀法形成红外截止滤光膜。

7.如权利要求3所述的光学元件的制造方法,其特征在于:所述压印模具包括成型腔,围绕所述成型腔的边缘具有凸起结构。

8.如权利要求3所述的光学元件的制造方法,其特征在于:所述压印模具为紫外光可穿透的模具。

9.如权利要求7所述的光学元件的制造方法,其特征在于:所述压印成型第一光学部的步骤包括:

将形成第一光学部的液态或塑胶材料浇注入所述成型腔;

将所述光学区与所述成型腔对准密合;

固化所述形成第一光学部的液态或塑胶材料;

脱去所述压印模具。

10.如权利要求9所述的光学元件的制造方法,其特征在于:所述固化方法利用紫外线固化。

11.一种光学元件的制造方法,包括以下步骤:

提供一透光基底,其包括相对的第一表面和第二表面;

在所述第一表面形成光阻层;

在所述第二表面形成红外截止滤光膜;

利用曝光显影的方法去除一部分光阻层,使所述第一表面露出部分表面,成为光学区;

利用压印模具在所述光学区压印成型第一光学部;

去除残留的光阻,形成非光学区;

在所述非光学区形成遮光膜;

利用所述压印模具在所述红外截止滤光膜表面对应于所述第一光学部的位置压印成型第二光学部。

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