[发明专利]液晶显示器用光敏间隙材及其制造方法以及液晶显示装置无效
申请号: | 200710199392.9 | 申请日: | 2007-12-20 |
公开(公告)号: | CN101226309A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 吉成伸一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G03F7/00;G03F7/20;G03F7/004 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 器用 光敏 间隙 及其 制造 方法 以及 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种构成液晶单元的单元厚度的变动容易成为显示不均的显示装置的间隙材的制造中优选的液晶显示器光敏间隙材的制造方法以及利用该方法制造的液晶显示器用光敏间隙材以及具备该液晶显示器用光敏间隙材的液晶显示装置。
背景技术
以往,液晶显示装置被广泛用于显示高图像质量图像的显示装置。液晶显示装置通常在一对基板间配置可以通过规定的取向来显示图像的液晶层,均一地维持该基板间隔即液晶层的厚度是决定图像质量的要素之一,所以在基板间配设用于将液晶层的厚度保持在一定的间隙材。该基板间的厚度通常被称为“单元厚度”,单元厚度表示所述液晶层的厚度,换言之,表示向显示区域的液晶施加电场的2张电极间的距离。
以往间隙材通过散布珠来形成,近年来,逐渐成为利用光刻法用感光性组合物来形成位置精密度高的间隙材。这样的使用感光性组合物形成的间隙材被称为光敏间隙材。
使用感光性组合物经过形成图案、碱显影以及烘焙制作的光敏间隙材的绝缘点(spacer dot)的压缩强度弱,在形成面板时具有塑性变形变大的趋势。高图像质量的图像显示要求没有因塑性变形而液晶层的厚度变得小于设计值等不能保持均一性的问题或发生图像不均的问题。
关于上述问题,作为用于微调整液晶层的厚度(单元厚度)的间隙材形成技术,公开有改变形成间隙材时的后烘焙条件的方法(例如参照特开2003-330030号公报)。
液晶单元中使用的光敏间隙材一直要求具有高的变形恢复性。为了实现该要求,尽管可以提高单体等的交联反应率,将变形恢复率提高到某种程度,但其提高效果存在达到顶点的趋势,需要进一步改善。
发明内容
本发明提供一种具有高度的变形恢复性且可以消除液晶显示装置中的显示不均的液晶显示器用光敏间隙材及其制造方法以及防止显示不均的可以显示高图像质量图像的液晶显示装置,以实现该目的为课题。
本发明是在得到可以通过使后曝光工序中的曝光量在规定的范围内而飞跃地提高光敏间隙材的变形恢复性,对改善液晶显示装置的显示不均特别优选的见解之后,基于该见解实现的。
用于实现所述课题的具体手段如下所述。
<1>一种液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其是具有在支撑体上形成至少含有具有交联性基的高分子化合物的感光性树脂层的树脂层形成工序,将所述感光性树脂层曝光成图案状的曝光工序,除去所述感光性树脂层的未曝光部分的显影工序,对已除去未曝光部分的所述感光性树脂层进行曝光的后曝光工序的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其特征在于,
在所述后曝光工序中,所述支撑体的形成有所述感光性树脂层的面的曝光量为固化所述感光性树脂层所需的最低限度曝光量的5倍以上的曝光量,与所述支撑体的形成有所述感光性树脂层的面相反的面的曝光量为20mJ/cm2以下。
<2>根据<1>所述的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其特征在于,
在所述后曝光工序中,所述支撑体的形成有所述感光性树脂层的面的曝光量为固化所述感光性树脂层所需的最低限度曝光量的10倍以上的曝光量。
<3>根据<1>或<2>所述的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其特征在于,
对所述支撑体的形成有所述感光性树脂层的面相反的面不进行曝光。
<4>根据<1>~<3>中任意一项所述的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其特征在于,
所述后曝光工序中使用的光线为平行光。
<5>根据<1>~<4>中任意一项所述的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法,其特征在于,
所述具有交联性基的高分子化合物为含有具有从分支结构及环状结构中选择的至少一种的重复单元、具有酸性基的重复单元、具有乙烯性不饱和基的重复单元的树脂。
<6>一种液晶显示器用光敏间隙材,其特征在于,
利用<1>~<5>中任意一项所述的液晶显示器用光敏间隙材的制造方法制造。
<7>一种液晶显示装置,其特征在于,
具备<6>所述的液晶显示器用光敏间隙材。
利用本发明,可以提供一种具有高度的变形恢复性且可以消除液晶显示装置中的显示不均的液晶显示器用光敏间隙材及其制造方法以及防止显示不均的可以显示高图像质量图像的液晶显示装置
具体实施方式
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