[发明专利]光学照明装置、曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1.一种光学照明装置，依据从光源部发出的光，以特定偏振状态来照明被照射面，其特征在于该光学照明装置包括：

导光手段，配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，将从该光源部发出的光导引到该被照射面；以及

偏振状态变动修正手段，配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，用以修正在该被照射面上的偏振状态变动。

2.根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的偏振状态变动修正手段更包括：

偏振状态调整手段，配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，用以调整在被照射面上的偏振状态；

偏振监视器，配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，用以检测出光的偏振状态；以及

控制部，依据该偏振监视器的输出，以控制该偏振状态调整手段。

3.根据权利要求2所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的偏振状态调整手段包括可调整相位板，配置在该光源部与该偏振监视器之间的光路中。

4.根据权利要求3所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的导光手段包括光学部材，具有使入射的光的偏振状态改变而射出的特性。

5.根据权利要求4所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光学部材是由结晶光学材料所形成。

6.根据权利要求1所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的偏振状态变动修正手段用来补正该供给的光的光路中的光穿透部材所引起的在该被照射面上的光偏振状态的变动。

7.根据权利要求6所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光穿透部材由结晶光学材料所构成。

8.根据权利要求7所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光穿透部材是由立方晶系的结晶材料所构成，配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，光行进方向设定成比结晶方位<110>更接近结晶方位<111>或结晶方位<100>。

9.根据权利要求8所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的偏振状态变动修正手段配置在该光源部与该被照射面之间的光路中，包括偏光状态调整手段，以调整再该被照射面上的偏光状态，其中该光穿透部材是由立方晶系所形成，光行进方向设定成比结晶方位<110>更接近<111>或<100>

10.根据权利要求9所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光穿透部材包括位置固定在该光路中的光学部材，该光学部材的光轴是设定成与结晶方位<111>或结晶方位<100>实质上一致。

11.根据权利要求9所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光穿透部材包括做为背面反射镜的直角棱镜，其中该直角棱镜的入射面与出射面设定成大致上与结晶面{100}一致，且该直角棱镜的反射面设定成实质上与结晶面{110}一致。

12.根据权利要求9所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的光穿透部材包括平行面板，在该光路中以可倾斜于该光轴设置，并且使沿着该光轴入射的光线平行移动，该平行面板的光轴是设定成与结晶方位<100>实质上一致

13.根据权利要求9中任一权利要求所述的光学照明装置，其特征在于其中所述的偏振状态变动修正手段是用来对在该被照射面上的偏振状态的长时间变动。

14.一种曝光装置，其特征在于其包括权利要求1至13中任一权利要求所述的光学照明装置，将预定的图案曝光到配置在该被照射面上的感光性基板上。

15.根据权利要求14所述的曝光装置，其特征在于更包括：

投影光学系统，配置在该预定的图案所设定的第一设定面与该感光性基板所设定的第二设定面之间的光路中，将该预定的图案像形成于该第二设定面上；

瞳强度分布形成手段，用以在该投影光学系统的瞳与共轭位置或其附近的位置上形成预定光强度分布；以及

瞳强度分布变更手段，用以改变该预定光强度分布的形状与大小的至少其中之一。