[发明专利]狭缝喷嘴有效

专利信息
申请号: 200710195326.4 申请日: 2007-12-10
公开(公告)号: CN101199961A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 高瀬真治;山口和伸;熊泽博嗣 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: B05C11/00 分类号: B05C11/00;B05C11/02;B05C11/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李伟
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 狭缝 喷嘴
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种以一定的宽度在基板表面上涂敷涂敷液的狭缝喷嘴。

背景技术

作为向玻璃基板等表面涂敷光致抗蚀剂等的涂敷液的方法,通常情况下,采用从喷嘴将涂敷液滴到基板表面,之后通过高速旋转来形成均匀厚度的旋涂方法。然而,使用该方法会引起所涂敷的涂敷液的90%以上飞散,造成浪费。因此最近,采取在使用狭缝喷嘴以一定宽度将涂敷液涂敷到基板后,通过一定程度地旋转来使涂膜的厚度均匀的方法,或采取用狭缝喷嘴以一定宽度将涂敷液涂敷到基板上,不进行旋转就结束涂敷工序的方法。

如上所述,减少涂敷液的浪费的条件是,尽量不旋转基板来使涂膜的厚度均匀。因此,对于狭缝喷嘴,从吐出口吐出的涂敷液的量需要沿着狭缝状吐出口均匀分布。为了确保该均匀性,至今提出有各种方案。

图6(a)是表示以往狭缝喷嘴概要的立体图,(b)是表示构成同一个狭缝喷嘴的喷嘴半体的图。狭缝喷嘴100由两个半体101、102对接而成,在一个半体101的中央形成有涂敷液供给孔103,从该涂敷液供给孔103供给的涂敷液,经形成于两个半体101、102之间的流路104从狭缝状吐出口105向基板表面涂敷。而且,以往把流路104在棚顶部形成山形,在其顶部开设有用于排出流路104内的气泡的气泡排出口106。

然而,最近随着基板尺寸的大型化,狭缝喷嘴也变大,由此流路104向棚顶部的倾斜变缓,而出现流路内的气泡不能完全排出的问题。若气泡难以排出,则用于排出气泡作业的空闲时间加长,另外,若未排尽而残留的气泡与涂敷液一起从吐出口排出,则会造成涂膜的膜厚不均匀。

专利文献1中,如图6(c)所示,在狭缝喷嘴的长边方向的两端部设置用于进行排出狭缝喷嘴内气泡的通气口。而且,狭缝喷嘴的气泡集结部内的上部,以从狭缝喷嘴的中央部向两端部渐渐升高的方式呈V字状倾斜。

另外,在专利文献2中,气泡从狭缝喷嘴的排出是通过吸引泵来吸引气泡而进行的。

专利文献1:日本特开2006-212592号公报

专利文献2:日本特开2006-87999号公报

专利文献1中所公开的狭缝喷嘴,虽然可以很容易地排出气泡,但若通气口只设在两端,则到排出气泡的通气口的距离变远,因此不够完善。另外,气泡集结部内的上部,以从狭缝喷嘴的中央部向两端部渐渐升高的方式倾斜,因此形成大量气泡集结。

另外,对于涂敷液的量空气所占容积相对增加,因此由于空气所造成的缓冲效果,使得利用涂敷液供给泵对涂敷液的加压不够充分,也可以想象也难实现对吐出压的控制。

另外,在专利文献2中公开的使用吸引泵的方法中,很难将与涂敷液混合在一起的气泡分离吸引出来。

发明内容

为了解决上述课题,本发明所提供的狭缝喷嘴,具有:供给涂敷液的涂敷液供给口、用于使涂敷液流到基板上的宽幅的狭缝状吐出口、连接上述涂敷液供给口与狭缝状吐出口的涂敷液流路,其中,上述涂敷液流路的棚顶面形成为多个呈倾斜的连山状,在连山状涂敷液流路的顶部设置有排出涂敷液流路内的气泡的排出口。

除了开设于上述连山状涂敷液流路的顶部的排出口之外,也可以在狭缝喷嘴长边方向的两端部侧面或长边方向的中央部形成排出口。

根据本发明所涉及的狭缝喷嘴,由于在连山状涂敷液流路的顶部开设有多个排出涂敷液流路内的气泡的排出口,故而可以容易地排出气泡。因此,可以减少用于排出气泡作业的空闲时间,也可以消除由气泡引起的涂膜的膜厚不均匀。

附图说明

图1是本发明所涉及的狭缝喷嘴的立体图。

图2是表示构成本发明所涉及的狭缝喷嘴的喷嘴半体的图。

图3中,(a)是沿图1中A-A方向的剖视图,(b)是沿图1中B-B方向的剖视图。

图4是表示其他实施例的狭缝喷嘴的主视图。

图5是表示另一个实施例的狭缝喷嘴的剖视图。

图6中,(a)是以往狭缝喷嘴的立体图,(b)及(c)是表示构成以往狭缝喷嘴的喷嘴半体的图。

符号说明如下:

1、2…喷嘴半体;3…涂敷液流路;4…第1存留部;5…第2存留部;6…涂敷液供给孔;7、7a、7b、7c…气泡排出口;8…形成有锐孔的平坦面;9…狭缝状吐出口;10、11…端板;100…狭缝喷嘴;101、102…狭缝半体;103…涂敷液供给孔;104…涂敷液流路;105…狭缝状吐出口;106…气泡排出口。

具体实施方式

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