[发明专利]一种纳米级多层膜结构的测量方法

说明书

技术领域

本发明属于光学测量技术领域，涉及利用X射线掠入射反射率测量膜复杂结构参数，具体地说是一种纳米级多层膜结构的测量方法。

技术背景

当前，利用X射线掠入射反射率表征多层膜结构的方法中，能够表征的结构参数包括：层厚度和密度，以及界面粗糙度σ。日本理学期刊公开了一种测量方法(I.Kojima and B.Li，The Rigaku Journal，Vol.16，No.2，31～41(1999))，其原理如下：多层膜X射线掠入射反射率与多层膜结构的关系如公式(1)所示：

R＝|r₁₂|²*Gauss(θ)

其中，r₁₂由如下递推公式计算

rj,j+1=rj+1,j+2+Fj,j+1rj+1,j+2×Fj,j+1+1aj4]]>

Fj,j+1=gj-gj+1gj+gj+1exp(-8π2gjgj+1σj+12λ2)]]>

a_j＝exp(-iπg_jd_j/λ)    (1)