[发明专利]光刻设备、器件制造方法和计算机程序产品

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，被配置用于调节辐射束，以便以第一或第二照射方式选择性地照射图案形成装置；

支撑结构，被构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置用于将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底台，被构造用于保持衬底；

投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括多个光学元件并具有光瞳平面，所述光学元件中的至少一个位于光瞳平面上或光瞳平面附近；以及

控制系统，被配置用于控制照射系统、支撑结构和衬底台，以当在图案形成装置上的图案和在衬底台上的衬底处于辐射束的辐射路径中时选择第一照射方式、从而进行生产曝光，而在衬底没有处于辐射束的辐射路径中的时间期间选择第二照射方式、从而进行修正辐射工艺，

其中，在设备的使用中，在图案形成装置处的辐射的角分布是使得图案化的辐射束的强度大致被包括在第一照射方式下的至少一个光学元件的横截面区域的第一部分内和在第二照射方式下的至少一个光学元件的横截面区域的第二部分内，所述第一和第二部分是大致不重叠的，第一和第二部分的组合不包括至少一个光学元件的整个横截面区域。

2.根据权利要求1所述的设备，还包括交换机构，用于选择性地将第一衍射光学元件或第二衍射光学元件定位在辐射束的辐射路径中、以分别实现第一或第二照射方式。

3.根据权利要求1所述的设备，还包括：在辐射束的辐射路径中的第一衍射光学元件，所述第一衍射光学元件被设置用于实现第一照射方式；和插入机构，所述插入机构被设置用于将第二衍射光学元件选择性地定位在辐射束的辐射路径中，所述第二衍射光学元件被设置用于结合所述第一衍射光学元件实现第二照射方式。

4.根据权利要求3所述的设备，还包括交换机构，所述交换机构被设置用于选择性地将多个第一衍射光学元件之一插入辐射束的辐射路径中，每个第一衍射光学元件被设置用于实现不同的第一照射方式，且其中第二衍射光学元件被设置用于结合任意一个第一衍射光学元件实现第二照射方式。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述控制系统还被配置用于当第一或第二照射方式被选择时，控制辐射源分别以第一功率水平或第二功率水平发出辐射束，所述第二功率水平高于所述第一功率水平。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，设置所述第二部分以使得修正辐射工艺有效地降低由在至少一个光学元件的生产曝光中的非均匀加热造成的象差。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一照射方式包括双极辐射分布，而第二照射方式包括具有与第一照射方式的极的位置邻近的极的四极辐射分布。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述双极分布的极是环的段，而四极分布的极是相同的环的段。

9.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一和第二照射方式的组合将在投影系统中产生加热效果，所述加热效果不会在投影的图案化的辐射束中造成不可接受的象差。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述投影系统还包括被配置用于修正投影的图案化的辐射束中的象差的可调整光学元件，而且其中，第一和第二照射方式的组合将在投影系统中产生加热效果，所述加热效果造成由可调整的光学元件可修正的象差。

11.一种器件制造方法，包括步骤：

采用具有光瞳平面并包括多个光学元件的投影系统，将具有波长的图案化的辐射束投影到衬底上，光学元件中的至少一个位于光瞳平面上或附近；以及

以具有与图案化的辐射束的波长大致相同的波长的修正辐射束辐射投影系统，

其中，图案化的辐射束的强度被大致包括在至少一个光学元件的横截面区域的第一部分内，且修正辐射束的强度被大致包括在至少一个光学元件的横截面区域的第二部分内，所述第一和第二部分是大致不重叠的，并且第一和第二部分的组合不包括至少一个光学元件的整个横截面区域。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述图案化的辐射束和修正辐射束分别具有第一和第二功率水平，所述第二功率水平高于所述第一功率水平。