[发明专利]简化的微镜制造工艺

权利要求书

1、一种微镜，包括：

由衬底支撑的铰链连接柱，其中所述铰链连接柱包括底层和围绕所述铰链连接柱中央处的腔体的侧面层；

与所述铰链连接柱的所述侧面层连接的铰链部件；以及

被配置为绕着所述铰链部件倾斜的镜面。

2、如权利要求1所述的微镜，其中，所述侧面层是相对于所述衬底倾斜的。

3、如权利要求1所述的微镜，其中，所述侧面层是圆锥形状，并且所述侧面层和所述底层形成杯状结构。

4、如权利要求1所述的微镜，其中，所述侧面层、所述底层和所述铰链部件形成整体结构。

5、如权利要求1所述的微镜，其中，所述侧面层、所述底层和所述铰链部件基本上由相同材料制成。

6、如权利要求1所述的微镜，其中，所述侧面层基本上垂直于所述衬底。

7、如权利要求1所述的微镜，其中，所述镜面包括反射层和铰链层。

8、如权利要求7所述的微镜，其中，所述铰链连接柱、所述铰链部件和所述铰链层形成整体结构。

9、如权利要求7所述的微镜，其中，所述铰链部件和所述铰链层是共面的。

10、如权利要求7所述的微镜，其中，所述铰链连接柱、所述铰链部件和所述铰链层基本上由相同材料制成。

11、如权利要求7所述的微镜，其中，所述铰链连接柱、所述铰链部件和所述铰链层包括导电材料。

12、一种在衬底上制造镜面的方法，包括：

在所述衬底上形成铰链支撑柱；

同时形成在所述铰链支撑柱上的铰链连接柱和与所述铰链连接柱连接的铰链层；

在所述铰链层上形成反射面；以及

有选择地去除部分的所述反射层和所述铰链层，以形成所述镜面和连接到所述铰链连接柱和所述铰链层的铰链部件，其中，所述镜面被配置为绕着所述铰链部件倾斜。

13、如权利要求12所述的方法，其中，形成所述铰链连接柱的步骤包括：

在所述衬底和所述铰链支撑柱上设置牺牲材料；

在所述牺牲材料中形成通孔，以暴露所述铰链支撑柱的上表面；

淀积导电材料，以同时在所述通孔中形成铰链连接柱以及在所述牺牲材料上形成所述铰链层。

14、如权利要求13所述的方法，其中，所述通孔包括相对于所述衬底倾斜的表面。

15、如权利要求13所述的方法，其中，所述通孔包括基本上垂直于所述衬底的表面。

16、如权利要求12所述的方法，其中，所述铰链连接柱包括底层和锥状侧面层，其中，所述锥状侧面层的下边沿与所述底层相连以定义腔体。

17、如权利要求12所述的方法，其中，所述铰链部件和所述铰链层是共面的。

18、如权利要求12所述的方法，其中，所述铰链连接柱、所述铰链部件和所述铰链层包括导电材料。

19、如权利要求12所述的方法，进一步包括：

在所述衬底和所述铰链支撑柱上设置牺牲材料；

在所述牺牲材料中形成通孔以暴露所述铰链支撑柱的上表面；

其中，形成所述铰链连接柱的步骤包括淀积导电材料，以同时在所述通孔中形成铰链连接柱和在所述材料上形成所述铰链层；

有选择地去除在所述铰链层中的导电材料，以在所述铰链层中形成开口来在所述铰链层中并且在所述铰链连接柱上定义铰链部件；

在所述铰链层和所述铰链部件上形成隔体层；

其中，有选择地去除部分的所述反射层的步骤包括暴露所述牺牲材料和去除所述牺牲材料以形成所述镜面和与所述铰链连接柱和所述铰链层连接的铰链部件。