[发明专利]电光学装置无效

专利信息
申请号: 200710181695.8 申请日: 2002-11-21
公开(公告)号: CN101146384A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: 松枝洋二郎 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H05B33/14 分类号: H05B33/14;H05B33/26;H05B33/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 装置
【说明书】:

本申请是申请日为2002年11月21日,申请号为02823189.9,发明名称为“有源矩阵基板、电光学装置以及电子机器”的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种电光学装置。

背景技术

含有液晶元件、有机EL元件、电泳元件、电子发射元件等的电光学装置的驱动方式之一是有源矩阵驱动方式。有源矩阵驱动方式的电光学装置中,在其显示面板上将多个像素配置成矩阵状。

多个像素的每一个,都含有由电光学元件和向该电光学元件供给驱动电力的驱动晶体管构成的像素电路。另外,这些多个像素电路的每一个,分别与数据线和扫描线的交叉部对应配置(例如:参照国际公开第WO98/36407号手册)。

为了精密地控制电光学装置的亮度,就必须精密地控制向电光学元件供给的电力量。尤其由于有机EL装置是电流驱动型的电光学元件,电流量会直接反映到亮度上。因此,需要以良好的精度向有机EL元件供给所希望的电流量,为此驱动电路或驱动方法自不必说,还需要对像素的布局进行最优化。实际上,在像素布局上的问题在于:例如像素电极与周围电路的接触、保持电容的稳定性或者晶体管的截断电流等。

发明内容

于是,本发明正是鉴于有关情况的发明,其目的之一在于提供一种含有用于稳定驱动电光学元件的最优像素布局的有源矩阵基板、电光学装置、以及电子机器。

为解决以上课题,本发明的第1有源矩阵基板,含有与设置在每个像素中的电光学元件相对应、向电光学元件供给电流的周围电路,各周围电路包括:保持元件,其用以保持控制电压;第1有源元件,其与保持元件相连接,用以向电光学元件供给根据控制电压的电流;以及第2有源元件,其与保持元件相连接,用以控制保持元件的充放电;上述第2有源元件具有截止时的漏泄电流防止结构。

这里,“电光学元件”一般是指通过电的作用而发光或者改变来自外部的光的状态的元件,包含自身发光的元件和对控制来自外部的光的通过的两者。例如,电光学元件中包括液晶元件、电泳元件、EL元件、将通过施加电场而产生的电子发射到发光板上使其发光的电子发射元件。

“周围电路”是指在有源矩阵型等电光学装置上各像素的驱动电路元件的集合体,例如由TFT等构成的集合体。

“有源矩阵基板”一般是指搭载周围电路的基板,而无论其是否有电光学元件形成。

“有源元件”并无限定,可以列举为例如TFT等的晶体管或者二极管。

这里,所谓“保持元件”是指例如电容器或存储器等的保持电信号的元件。

有源元件所具有的“截止时的漏泄电流防止结构”是指,通常在该有源元件处于非导通状态时,会有非常少量的理想上不应该有的电流流动,而有源元件具有以防止产生这样的电流(漏泄电流)为目的而形成的结构。

作为这样的元件,可以列举例如多栅极型的有源元件。所谓多栅极型的有源元件,其虽然作为一个元件发挥功能,但是严密意义上是指与将多个有源元件串联连接而将它们的控制端子之间相互连接的元件相同的功能的有源元件。

在构成多栅极型有源元件时,可以如后述本实施方式那样令半导体层采用弯曲的形状,也可以将栅极的形状进行弯曲。

另外,作为第2有源元件,也可以是具有从LDD结构、GDD结构以及DDD结构组成的组中选择的一种结构的晶体管。这里,“LDD”是LightlyDopedDrain的简称,“GDD”是GradedDiffusedDrain的简称,“DDD”是Double Diffused Drain的简称。具有这些结构的晶体管,是为了限制由在微细化MOSFET时的热电子等引起的不良影响,而对漏极附近的最大电场进行削弱的元件。例如,是指以下这种晶体管,为了缓和进行了杂质扩散的区域与硅基板之间的电场,向晶体管的漏极区域进行轻微掺杂后,形成例如自我匹配的n一区域。

这种晶体管由于在截止时的源极—漏极之间的电阻值非常高、能够减少漏泄电流,所以可以使蓄积在保持元件中的电荷不会散失,并使施加在控制用端子上的电位保持稳定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710181695.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top