[发明专利]喷嘴及反应腔室有效

专利信息
申请号: 200710178735.3 申请日: 2007-12-04
公开(公告)号: CN101453822A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 彭东阳 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34;H01L21/00
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人: 赵镇勇
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 反应
【权利要求书】:

1.一种喷嘴,包括喷嘴主体,所述喷嘴主体内设有气体主通道,其特征在于,所述 喷嘴主体的前端设有喷嘴头,所述喷嘴头包括:

中间盘,所述中间盘上设有密集小孔;

侧壁,与所述中间盘之间通过连接筋连接,所述中间盘和侧壁之间没有连接筋处 的间隙形成周边环孔;

其中,所述周边环孔和所述密集小孔分别与所述气体主通道相通。

2.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,所述的喷嘴主体与所述喷嘴头之间通过 螺纹连接。

3.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,所述的喷嘴主体与所述喷嘴头之间通过 卡槽、卡榫连接。

4.根据权利要求3所述的喷嘴,其特征在于,所述的喷嘴主体的内壁设有卡槽,所述 卡槽包括纵向槽,所述纵向槽的后部连接有横向槽,所述喷嘴头的外壁设有卡榫,所述卡 榫沿所述纵向槽插入,之后沿所述横向槽插入,实现所述喷嘴主体与所述喷嘴头之间的固 定连接。

5.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,所述的喷嘴主体的气体主通道的内表面 与所述喷嘴头的侧壁的内表面平齐。

6.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,所述周边环孔为扇形孔或圆形孔。

7.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,所述连接筋为立筋或方杠或圆杠。

8.一种反应腔室,其特征在于,该反应腔室设有权利要求1至7任一项所述的喷嘴, 所述喷嘴的中间盘上的多个小孔的直径和分布密度参照反应腔室内对气体分布的均匀性要 求进行设计。

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