[发明专利]超薄柔顺导电高分子敏感膜及其制备方法

权利要求书

1.一种超薄柔顺导电高分子敏感膜，其特征在于，该膜主要以作为导电相的导电炭黑、以作为绝缘相的单组份硅橡胶和纳米SiO₂分散剂构成；各成分的体积浓度比为：单组份硅橡胶∶导电炭黑∶纳米SiO₂＝100∶10～15∶1～3。

2.如权利要求1所述的敏感膜，其特征在于，所述导电炭黑为平均直径小于1μm的导电炭黑粉末、所述纳米SiO₂直径为10-50nm。

3.如权利要求1所述的敏感膜，其特征在于，该膜厚度为70-100μm。

4.如权利要求1、2或3所述的敏感膜，其特征在于，该膜还含有用于增加弹性的顺丁橡胶，该顺丁橡胶占导电炭黑、纳米SiO₂和单组份硅橡胶的总体积量的3-5％。

5.一种超薄柔顺导电高分子敏感膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

a、将平均直径小于1μm的导电炭黑粉末、10-50nm的SiO₂分散剂粉末和液态单组份硅橡胶在浓度为95％以上丙酮有机溶剂中混合；其中，各成分的体积浓度比为：单组份硅橡胶∶导电炭黑粉末∶纳米SiO₂分散剂粉末∶丙酮有机溶剂＝100∶10～15∶1～3∶300～500；

b、在超声振荡下进行机械搅拌，搅拌环境温度为40-60℃，搅拌时间为2-4小时，达到凝胶状态混合体；

c、再继续机械搅拌20-30分钟，使丙酮挥发；

d、将丙酮挥发后的混合体滴入旋转平台，旋涂成型，厚度为70-100μm的导电高分子膜；

e、用该导电高分子膜总体积1％的正硅酸乙脂交联剂和2％的二月桂酸二丁基锡催化剂对该导电高分子膜上进行硫化，时间为24小时以上，以形成良好的弹性膜。

6.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤c中还包括先将混合体总体积量的3-5％的粒径为10-30μm顺丁橡胶颗加入到该混合体中，再继续机械搅拌。