[发明专利]TFT-LCD彩膜/阵列基板、液晶显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种TFT-LCD彩膜/阵列基板，其特征在于，包括：

第一基板，

彩膜层，包括彩色树脂和黑矩阵，形成在所述第一基板的一表面上；

透明层，形成在所述彩膜层上，并具有平整表面；

阵列结构层，形成在所述第一基板的另一表面上。

2.根据权利要求1所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板，其特征在于，所述彩膜层包括：

红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂，形成在所述第一基板的一表面上；

黑矩阵，形成在所述红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂之间。

3.根据权利要求1所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板，其特征在于，所述彩膜层包括：

黑矩阵，形成在所述第一基板的一表面上；

红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂，形成在所述黑矩阵之间。

4.根据权利要求1所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板，其特征在于，所述透明层的材料为具有凝固稳定特性的透明材料。

5.根据权利要求1～4中任一权利要求所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板，其特征在于，所述第一基板上还形成有作为所述阵列结构层对位基准的对位标记，使所述彩膜层与所述阵列结构层以小于1.5μm的对位偏差精确对位。

6.一种包含权利要求1～5中任一权利要求所述TFT-LCD彩膜/阵列基板的液晶显示面板，其特征在于，包括与所述彩膜/阵列基板对盒的公共基板，所述彩膜/阵列基板和公共基板之间设置有液晶层。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜/阵列基板为上基板。

8.一种TFT-LCD彩膜/阵列基板制造方法，其特征在于，包括：

在第一基板的一表面上形成彩膜层；

在所述彩膜层上形成具有平整表面的透明层；

在完成上述步骤的第一基板的另一表面上形成阵列结构层。

9.根据权利要求8所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板制造方法，其特征在于，所述在第一基板的一表面上形成彩膜层具体为：

在第一基板的一表面上形成红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂；

在完成上述步骤的第一基板上形成黑矩阵。

10.根据权利要求8所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板制造方法，其特征在于，所述在第一基板的一表面上形成彩膜层具体为：

在第一基板的一表面上形成黑矩阵；

在完成上述步骤的第一基板上形成红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂。

11.根据权利要求8～10中任一权利要求所述的TFT-LCD彩膜/阵列基板制造方法，其特征在于，所述在第一基板的一表面上形成彩膜层中还包括在所述第一基板上形成作为所述阵列结构层对位基准的对位标记的步骤。

12.一种包含权利要求8～11中任一权利要求所述TFT-LCD彩膜/阵列基板制造方法的液晶显示面板制造方法，其特征在于，包括：

分别制备彩膜/阵列基板和公共基板；

将所述彩膜/阵列基板和公共基板对盒封装。

13.根据权利要求12所述的液晶显示面板制造方法，其特征在于，所述将所述彩膜/阵列基板和公共基板对盒封装具体为：将所述彩膜/阵列基板和公共基板分别作为上基板和下基板，经过取向膜涂覆、摩擦取向、液晶预滴和对盒流程完成对盒封装。

14.根据权利要求13所述的液晶显示面板制造方法，其特征在于，所述对盒封装中还包括在上基板或下基板上形成柱形隔垫物的步骤。