[发明专利]一种探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法有效
申请号: | 200710171740.1 | 申请日: | 2007-11-30 |
公开(公告)号: | CN101451956A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 江晓松 | 申请(专利权)人: | 先普半导体技术(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N21/75 | 分类号: | G01N21/75;G01N21/17 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘立平 |
地址: | 201108上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 探测 材料 重复使用 气体 分子 总量 方法 | ||
1.一种探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,所述方法适用于设有气体容器的气体纯化装置,其特征在于,所述方法包括下述步骤:
探测材料的制备:
以无机多孔材料为基材,在其孔隙的内外表面上覆盖一种或一种以上的选自锰,铬,铜的氧化物,制成探测材料;
加热激活:
首先,将上述探测材料置于还原气氛中进行加热激活,使所述一种或一种以上的选自锰,铬,铜的氧化物被还原到低价氧化态;
光照射:
采用一光导纤维,将波长为500-550纳米的光照射在所述探测材料的表面,同时使用第二根光导纤维对准被第一根光导纤维照射的位置,收集探测材料表面的反射光,
光电信号转换:
第二根光导纤维的另一端对准一个光电二极管,该光电二极管将第二根光导纤维收集到的反射光转变为电信号;
氧化物的高价态氧化:
完成上述激活后,将探测材料置于被测量的气体中,气体中含的氧分子会逐步使锰,铬,铜的氧化物被氧化到高价氧化态,
此时探测材料表面会逐步失去对特定波长光的反射能力,从而导致光电二极管上产生的电信号逐步减小;
氧分子总量测定:
当电信号减小到预先设定值时,可以认为通过的累计氧分子总量已经达到预先设定指标。
2.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述无机多孔类基材为沸石类材料。
3.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述无机多孔材料的孔隙度为200平方米/克以上。
4.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述氧化物为50-100%锰+0-50%铜的氧化物。
5.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述纳米光为550纳米的绿光。
6.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述氧分子总量测定设定为1X10-6mol。
7.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,所述激活温度为320-350℃。
8.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,在加热激活的过程中,在气体容器内通入3-10%的氢气和90-97%的氮气。
9.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,在加热激活的过程中,在气体容器内通入100%的氢气。
10.如权利要求1所述的探测材料可重复使用的气体氧分子总量的探测方法,其特征在于,激活时间为0.5-2小时。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先普半导体技术(上海)有限公司,未经先普半导体技术(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710171740.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:由甲烷制备芳烃
- 下一篇:韧性堇青石玻璃-陶瓷