[发明专利]静电图像显影用调色剂、显影剂和使用它们的装置和设备在审

专利信息
申请号: 200710170201.6 申请日: 2007-11-15
公开(公告)号: CN101295146A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 五十岚润;田口哲也;坂井素子;高木正博 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G9/08 分类号: G03G9/08;G03G15/00;G03G15/08
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;谢栒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 静电 图像 显影 调色 显影剂 使用 它们 装置 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及静电图像显影用调色剂和其制造方法、静电图像显影剂、调色剂盒、处理盒以及成像设备。 

背景技术

在电子照相术中,通常,图像是经多个步骤形成的;通过各种手段在使用了光导电性物质的感光体(潜像保持体)的表面上以电方式形成静电潜像,利用显影剂将所形成的静电潜像显影以形成调色剂图像,之后(必要时可使用如纸等中间转印体)将调色剂图像转印至如纸等接受材料的表面,并通过加热、加压或者两者共同作用将调色剂图像定影。另外,经通常使用刮刀的清洁步骤除去残留在感光体表面上的调色剂。 

在此循环中,例如未转印调色剂、雾化调色剂、放电产物和纸粉等污染物残留或者附着在感光体或中间转印体上;可通过使用刮刀或刷子除去这些污染物。另一方面,例如刮刀或刷子等清洁部件刮擦感光体或中间转印体;由此,基于耐擦伤性和耐磨性的观点,需要保持合适的将污染物从感光体表面除去并且长期稳定获得高品质图像的能力。 

为了提高耐擦伤性和耐磨性,已尝试将润滑性材料或研磨性材料添加到调色剂中。例如,已经提出一种方法(参见特开2000-89502号公报),其中将润滑剂添加到显影剂中以在感光体上形成膜,由此提高了易清洁性并且抑制了感光体的磨损。还提出了旨在通过提供润滑剂供应单元来延长感光体寿命的另一种方法(例如,参见特开2001-51571号公报)。在已提出的另一个方法中(例如,参见特开2005-4051号公报),将未转印调色剂堆积在刮刀末端并被用作润滑剂供应单元从而维持易清洁性和延长寿命(长期稳定性)。已提出的另一种清洁方法(参见特开2001-13837号公 报)在感光体接触清洁用刮刀的接触部位以50~100μm的宽度提供了一种粒径小于调色剂的粒径的清洁助剂,以提高易清洁性。还进一步提出了一种方法(参见特开2005-115311号公报),其中提供了将保护剂涂布于感光体表面的机构,从而抑制了感光体的不均匀磨损并且延长了寿命。 

发明内容

潜像保持体的磨损过程如下:首先,潜像保持体的表面层被带电装置的放电所劣化,由此增大了表面粗糙度,而当清洁用刮刀压到劣化的位置时将刮伤该位置,于是导致磨损。此时,调色剂、清洁助剂和从外部添加至调色剂的无机粒子堆积在静电潜像保持体与清洁用刮刀之间的接触部,并且它们影响磨损程度和各位置之间的磨损不均匀度(潜像保持体轴向的磨损不均匀度)。尤其是,比潜像保持体表面硬的高硬度粒子(如研磨剂)的存在是影响磨损的一个重要因素。换句话说,已发现使所述研磨剂均匀分布在接触部可以有效地抑制不均匀磨损。 

然而,以往添加到调色剂中的研磨剂表现出对调色剂的强烈的附着力。因此,研磨剂存在于形成图像的区域(图像部),而在不形成图像的区域(非图像部)则不存在研磨剂。结果,潜像保持体与清洁装置之间的接触部中有无研磨剂依赖于要形成的图像图案(图像密度),并且难以控制研磨剂分布的不均匀度。 

本发明涉及的是提供可以有效抑制潜像保持体的不均匀磨损的静电图像显影用调色剂、制造此调色剂的方法、含有此调色剂的静电图像显影剂、容纳有此调色剂的调色剂盒、容纳有此静电图像显影剂的处理盒和可以有效抑制潜像保持体的不均匀磨损且可以提供高品质图像的成像设备。 

上述问题可以被如下所示的本发明所解决。 

本发明的第一方案提供了一种静电图像显影用调色剂。所述调色剂包含研磨剂,所述研磨剂具有10%~40%的由下式(1)表示的附着率(A): 

附着率(A)=B/(B+C)×100    式(1) 

在式(1)中,B表示对分散有所述调色剂的分散液施加15分钟的超声 波振动(输出:60W,频率:20kHz)并除去漂浮在所述调色剂表面上的所述研磨剂之后附着于所述调色剂的研磨剂的重量,C表示上述除去的研磨剂的重量。 

根据第一方案,可以有效抑制潜像保持体的不均匀磨损。 

本发明的第二方案提供了如第一方案所述的静电图像显影用调色剂,其中,所述研磨剂的附着率(A)为15%~35%。 

根据第二方案,可以更有效地抑制潜像保持体的不均匀磨损。 

本发明的第三方案提供了如第一方案所述的静电图像显影用调色剂,其中,所述研磨剂的附着率(A)为20%~30%。 

根据第三方案,可以更有效地抑制潜像保持体的不均匀磨损。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710170201.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top