[发明专利]大直径光纤芯棒的PCVD制作方法

权利要求书

1.一种大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于

取外径为36～46毫米、内径32～40毫米，衬管长度1.45～1.85米的石英衬管，进行PCVD加工；

加工工艺的参数为：

微波谐振腔的高频功率控制在6KW～15KW，沉积温度1080℃～1130℃，

流经衬管管内混合气体的种类：四氯化硅蒸气、四氯化锗蒸气、高纯氧气、氟里昂，

衬管的管内压力为10-15毫巴，管内气体流速为30-80米/秒，气体体积流量为4400SCCM-8800SCCM。

2.按权利要求1所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于所述的混合气体中四氯化硅与高纯氧气的比例为1∶3.0～4.0。

3.按权利要求1或2所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于衬管内的沉积速率为2.5～4.5克/分。

4.按权利要求1或2所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于衬管内单层沉积厚度为0.5～0.8微米。

5.按权利要求1或2所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于微波谐振腔的轴向移动速度为15～30米/分。

6.按权利要求1所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于微波谐振腔沿衬管轴向从一端至另一端往复移动，每移动至衬管一端衬管旋转70～110度。

7.按权利要求3所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于采用外径为36毫米、内径32毫米、长度1.55米的石英圆筒管作为沉积用衬管，经过两端延长、清洗后安装到沉积车床上开始沉积，沉积速率为2.72克/分钟，SiCl₄+GeCl₄蒸气体积流量1300SCCM，氧气体积流量4290SCCM，C₂F₆气体积流量150SCCM，总的气体流量5740SCCM，氧气和SiCl₄蒸气体积流量比3.3∶1，沉积环境温度1120℃，管内压力10毫巴，气体流速58米/秒，高频功率6100W。

8.按权利要求3所述的大直径光纤芯棒的PCVD制作方法，其特征在于采用外径为36毫米、内径32毫米、长度1.55米的石英圆筒管作为沉积用衬管，经过两端延长、清洗后安装到沉积车床上开始沉积，沉积速率为3.02克/分钟，SiCl₄+GeCl₄蒸气体积流量1450SCCM，氧气体积流量5075SCCM，C₂F₆气体积流量200SCCM，总的气体流量6725SCCM，氧气和SiCl₄蒸气体积流量比3.5∶1，沉积环境温度1110℃，管内压力12毫巴，气体流速52米/秒，高频功率8000W。