[发明专利]基板处理装置、基板搬送方法和计算机程序

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

容纳基板载置台并对其基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室；

检测所述处理腔室的温度的温度传感器；和

相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的接收传递的搬送装置，其中

所述搬送装置包括搬送装置本体和控制所述搬送装置本体的驱动并控制基板的搬送的搬送控制部，

所述搬送控制部，根据与所述温度传感器检测的温度对应的所述处理腔室的变位，在规定时间校正所述搬送装置本体的所述处理腔室内的基准位置，以校正过的基准位置为基准控制所述搬送装置本体的基板的搬送。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

所述搬送控制部包括：

存储部，其存储有预先求出的基准位置信息、和所述处理腔室的温度与变位之间的关系；和

运算部，其根据所述温度传感器检测的温度、所述预先求出的基准位置信息、和所述关系来校正基准位置。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：

存储在所述存储部中的所述预先求出的基准位置信息是在室温下的基准位置信息。

4.如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于：

所述存储部将所述处理腔室的温度与变位的关系作为函数而存储着。

5.如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于：

所述存储部将所述处理腔室的温度与变位的关系作为表而存储着。

6.如权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述搬送装置本体具有支撑基板的基板支撑部，所述基准位置是所述基板支撑部相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的传递的位置。

7.如权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述存储部将所述处理腔室壁部的温度和与所述基板载置台的基板前端位置对应的部分的变位的关系作为所述处理腔室的温度与变位的关系加以存储。

8.如权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

所述搬送控制部在所述搬送装置本体每次进入所述处理腔室时，进行所述基准位置的校正。

9.如权利要求1～8中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

还包括容纳所述搬送装置本体且与所述处理腔室邻接的搬送室。

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于：

具有多个所述处理腔室，每个所述处理腔室具有温度传感器，所述多个处理腔室与所述搬送室连接，所述搬送控制部根据由每一个所述多个处理腔室的所述温度传感器检测的温度，校正各处理腔室的所述基准位置。

11.如权利要求1～10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：

还包括测定所述搬送装置本体的温度的温度传感器，所述搬送控制部根据从所述处理腔室的变位中减去所述搬送装置本体的变位后的值，进行所述基准位置的校正。

12.一种基板搬送方法，该基板搬送方法通过搬送装置相对在基板上实施规定处理的处理腔室内的基板载置台进行基板的接收传递，其特征在于，包括：

寻求所述搬送装置的基准位置的工序；

寻求所述处理腔室的温度与变位的关系的工序；

把握所述处理腔室的温度的工序；

根据所述处理腔室的温度、所述基准位置、和所述关系，进行基准位置的校正的工序；和

以校正后的基准位置为基准，相对所述处理腔室进行基板的接收传递的工序。

13.如权利要求12所述的基板搬送方法，其特征在于：

所述寻求基准位置的工序在室温下进行。

14.如权利要求12或13所述的基板搬送方法，其特征在于：

所述搬送装置具有支撑基板的基板支撑部，所述基准位置是所述基板支撑部对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的传递的位置。

15.如权利要求12～14中任一项所述的基板搬送方法，其特征在于：

用所述处理腔室壁部的温度和与所述基板载置台的基板前端位置对应的部分的变位的关系，作为所述处理腔室的温度与变位的关系。