[发明专利]图像传感器及其制造方法

权利要求书

1.一种图像传感器的制造方法，包括：

在像素阵列衬底上涂敷用于微透镜的光刻胶；

通过使用曝光掩膜对光刻胶进行曝光和显影，来形成具有台阶差的透镜图案阵列；以及

对透镜图案阵列进行回流，以形成不同形状的微透镜。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述曝光掩膜是半色调相移掩膜。

3.如权利要求2所述的方法，其中，所述半色调相移掩膜包括用于所述曝光掩膜的每个掩膜块的挡光区、部分光透射区，和完全光透射区。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述透镜图案阵列中央的掩膜块包括：所述掩膜块的中央区域中的挡光区，以及所述掩膜块的中央区域周围的部分光透射区。

5.如权利要求3所述的方法，其中，所述透镜图案阵列左部的掩膜块包括：在所述掩膜块的左边缘处的挡光区，以及在所述掩膜块的剩余区域的部分光透射区。

6.如权利要求3所述的方法，其中，所述透镜图案阵列右部的掩膜块包括：在所述掩膜块的右边缘处的挡光区，以及在所述掩膜块的剩余区域的部分光透射区。

7.如权利要求1所述的方法，其中，当从多个微透镜中选择的微透镜处于离开中央区的越远的位置时，该所选微透镜的微透镜边缘区域的厚度形成得越厚。

8.如权利要求1所述的方法，其中，当从多个微透镜中选择的微透镜处于离开中央区的越远的位置时，该所选微透镜的表面曲率半径以越大的非对称形式变化。

9.一种图像传感器，包括：

形成在像素阵列衬底上的滤色镜阵列；以及

形成在滤色镜阵列上的微透镜阵列，

其中，所述微透镜阵列中的微透镜被形成为不同的形状。

10.如权利要求9所述的图像传感器，其中，当从微透镜阵列中选择的微透镜处于离开中央区的越远的位置时，该所选微透镜的表面曲率半径以越大的非对称形式变化。

11.如权利要求9所述的图像传感器，其中，当从微透镜阵列中选择的微透镜处于离开中央区的越远的位置时，该所选微透镜的微透镜边缘区域的厚度形成得越厚。

12.如权利要求9所述的图像传感器，其中，位于所述微透镜阵列的中央区域的微透镜被形成为穹顶形状。

13.如权利要求9所述的图像传感器，其中，位于所述微透镜阵列的左侧区域的微透镜的左边缘区域形成得厚。

14.如权利要求9所述的图像传感器，其中，位于所述微透镜阵列的右侧区域的微透镜的右边缘区域形成得厚。