[发明专利]一种集成电路装置及存储矩阵有效
| 申请号: | 200710166453.1 | 申请日: | 2007-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN101345250A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
| 发明(设计)人: | 李自强;梁春升;黄俊仁;杨富量 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L23/522 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈红 |
| 地址: | 台湾省新竹市新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 集成电路 装置 存储 矩阵 | ||
1.一种集成电路装置,其特征在于,包含:
一个晶体管,具有一第一接点、第二接点和第三接点;
一接触栓塞,连接该第一接点;
一金属线,连接且覆盖在该接触栓塞之上;
一第一电阻式存储单元,具有一第一底电极、一第一电阻组件以及一第一顶电极,该第一电阻组件位于该第一底电极与该第一顶电极之间,其中该第一底电极连接并覆盖在该金属线之上,且该第一底电极的截面积小于该第一电阻组件的截面积,且该第一顶电极的电阻率大于或等于该第一底电极的电阻率;以及
一第二电阻式存储单元,具有一第二底电极、一第二电阻组件以及一第二顶电极,该第二电阻组件位于该第二底电极与该第二顶电极之间,其中该第二底电极连接并覆盖在该金属线之上,且该第二底电极的截面积小于该第二电阻组件的截面积,且该第二顶电极的电阻率大于或等于该第二底电极的电阻率。
2.根据权利要求1所述的集成电路装置,其特征在于,该第一和该第二底电极的电阻率高于该金属线。
3.根据权利要求1所述的集成电路装置,其特征在于,该晶体管选自一组至少具有多个双极结型晶体管、多个金属氧化物半导体装置和多个鳍式场效应晶体管的群组。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





