[发明专利]工艺、设备以及器件

说明书

技术领域

本发明涉及一种工艺和设备以及器件。本申请要求2006.12.01递交的、申请号为11/607,098的美国专利的优先权，这里将其以引用的方式并入本文。

背景技术

光刻设备是将所需图案应用到衬底(通常是衬底的目标部分)上的机器。例如，可以在集成电路(IC)的制造中使用光刻设备。在该情况下，可以使用可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置，产生将要形成在IC的独立层上的电路图案。这一图案可以转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分上(例如，包括一个或多个管芯的一部分)。典型地，通过在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上成像而转移图案。通常，单个衬底将包含连续图案化的邻近目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，在其中通过将整个图案一次曝光到目标部分上而辐射每一目标部分；以及所谓的扫描器，在其中通过沿给定方向的(“扫描”方向)辐射束扫描图案而辐射每一目标部分，同时与这一方向平行或反向平行地同步扫描衬底。也可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底。

掩模典型地由电子束光刻技术制造，其中所需的掩模图案通过将掩模板光敏层在电子束(电子束写工艺)中受控曝光，而制作在掩模板的光敏层上。之后光敏层中的图案转移到掩模图案层中，所述掩模图案层典型地为布置在透明掩模基层上的金属层。

已知的是，制作的掩模图案层由于光刻工艺会发生一些扭曲或缺陷。缺陷的典型原因是，例如(掩模图案层的)应力产生的扭曲、在电子束写工艺过程中加热产生的扭曲，或者由在掩模上设置的薄膜引起的扭曲。

制作IC涉及在目标部分中制作彼此重叠的多个图案。所述彼此重叠的图案通常由每一个在不同掩模上的不同掩模图案制作。每一个所述掩模图案具有它们各自的扭曲或缺陷。在将掩模图案转移到目标部分的过程中，将随着使用掩模图案而将扭曲转移到在目标部分上制作的图案中。因此，目标部分上的重叠图案通常与导致目标部分中重叠误差的不同扭曲有关。这种重叠误差通常称为场内重叠误差。

发明内容

需要一种能够降低或修正掩模图案的扭曲或缺陷对曝光图案扭曲的影响的设备以及工艺。

根据本发明的一个方面，提供一种用于在衬底的目标区域上制作交叠图案的工艺，包括：

-提供交叠图案之间的重叠误差，所提供的重叠误差对应于根据所述工艺模型的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值控制工艺；

-通过使模型与包括所提供的重叠误差以及用于至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值的数据相适应，确定对应于最小重叠误差的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的值；

-制作交叠图案，由此根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的经过确定的值来控制所述工艺；

其特征在于：

根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第一个经过确定的值制作所述交叠图案中的一个的第一部分，以及根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第二个经过确定的值制作所述交叠图案中的所述一个的第二部分，其中第一个值不同于第二个值。

根据发明的一个方面，通过使工艺模型与包括工艺参数的建议值的数据和交叠图案之间的估计重叠误差相适应，提供一种设置用于确定在衬底上制作交叠图案的工艺的工艺参数的值的设备，估计重叠误差对应于根据工艺参数的建议值的工艺的控制，由此工艺参数的经过确定的值对应于最小重叠误差；特征在于：

所述设备布置用于确定用于制作在目标区域的第一段中的交叠图案中的一个交叠图案的第一部分的工艺参数的第一个值，以及用于制作交叠图案中的所述一个交叠图案的第二部分的工艺参数的第二个值，其中所述第一个值不同于所述第二个值。

根据本发明的一个方面，提供一种用于在衬底上制作若干交叠图案中的第一图案的设备，所述设备包括保持所述衬底的衬底台，并包括

-制作装置，用于在目标区域的第一段中制作第一图案的第一部分，以及在目标区域的第二段中制作第一图案的第二部分，其中第一部分不同于第二部分并且第一段不同于第二段；

-与制作装置以及衬底台连接的控制器，设置用于通过基于一组工艺参数值控制衬底台和制作装置，控制所述若干交叠图案的第一图案与第二图案之间的重叠；

其特征在于：

设备设置用于根据所述组工艺参数的第一工艺参数的第一个值制作所述第一部分，并根据所述第一工艺参数的第二个值制作所述第二部分。

根据本发明的一个方面，提供一种由权利要求1至16任一项的工艺制造的器件。

附图说明