[发明专利]邪蒿素及其衍生物的制备方法

权利要求书

1.合成下式邪蒿素及其衍生物的方法：

其中，

R₁，R₂，R₃和R₄各自独立地选自H，OH，卤素，C₁-C₄烷基，C₁-C₄烷氧基，(C₁-C₄)-X，CN，NH₂；

X为F，Cl，Br，CN，NO₂，NH₂或OH；

所述方法包括如下步骤：

(1)以取代的间苯二酚(A)为起始原料，与取代的乙酰乙酸乙酯在浓硫酸中进行Pechmann反应形成7-羟基香豆素(B)；

(2)将步骤(1)中得到的7-羟基香豆素(B)与乙酸酐加热反应得到7-羟基被乙酰化的化合物(C)；

(3)步骤(2)得到的化合物(C)与三氯化铝混合共热，经Fries重排得到8-乙酰基-7-羟基香豆素类化合物(D)；

(4)以苯、甲苯、二氯甲烷、丙酮等作溶剂，在吡咯烷存在下，步骤(3)得到的8-乙酰基-7-羟基香豆素类化合物(D)与丙酮进行缩合反应得到角状三环香豆素骨架结构分子(E)；

(5)以甲醇、乙醇、乙腈等为溶剂，步骤(4)得到的化合物(E)经NaBH₄还原得到4’-羟基邪蒿素类化合物；

(6)在硫酸、对甲苯磺酸、lewis酸等的催化下，以苯、甲苯等为溶剂加热，脱水即得到邪篙素类化合物。

2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于Pechmann反应中温度控制在-2～25℃，取代的间苯二酚(A)与取代乙酰乙酸乙酯的摩尔比1∶1.1～1∶3，反应时间为1-5小时。

3.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于乙酰化反应中温度控制在100～150℃，由步骤1得到的7-羟基香豆素(B)的摩尔数与乙酸酐的毫升比为1∶300～1∶600，反应时间为0.5-3小时。

4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于Fries重排反应中温度控制在150～200℃，由步骤得2的化合物(C)与三氯化铝摩尔比为1∶1.1～1∶6，反应时间为1.5-6小时。

5.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于环化反应中温度控制在10～60℃，由步骤3得到的化合物(D)与吡咯烷、丙酮的摩尔比为1∶0.1∶1.2～1∶0.6∶4，反应时间为10-96小时，溶剂选自苯、甲苯、二氯甲烷和丙酮等。

6.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于还原反应中温度控制在0～50℃，反应时间为2-24小时，由步骤4得到的化合物(E)与硼氢化钠的摩尔比为1∶1.2～1∶3，溶剂选自甲醇、乙醇和乙腈等。

7.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于脱水反应中温度控制在60℃～100℃，反应时间为10-100分钟，由步骤5得到的化合物(F)与酸的摩尔比为1∶0.02～1∶0.1，溶剂选自苯和甲苯等，催化剂酸为硫酸、对甲苯磺酸、lewis酸等。