[发明专利]衬底抛光设备和方法有效
| 申请号: | 200710162207.9 | 申请日: | 2007-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN101157199A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
| 发明(设计)人: | 胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B57/02;B24B41/04;B24B41/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蔡洪贵 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 衬底 抛光 设备 方法 | ||
1.一种衬底抛光设备,包括:
衬底保持机构,所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头;
抛光机构,所述抛光机构包括具有抛光工具的抛光台,由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具,以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底;
衬底传递机构,所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器、和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器,所述待抛光衬底接收器和所述已抛光衬底接收器相互同轴地设置。
2.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述衬底传递机构包括用于清洗和干燥已抛光衬底的清洗和干燥单元。
3.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述待抛光衬底接收器包括用于支撑衬底的器件区域的第一衬底支撑件,所述已抛光衬底接收器包括用于支撑衬底的无器件区域的第二衬底支撑件;
所述第一衬底支撑件和第二衬底支撑件可相互独立地致动。
4.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述已抛光衬底接收器包括沿衬底的外围边缘设置、且通过提升和下降机构可垂直移动地支撑的多个衬底支撑件,和分别安装在所述衬底支撑件上的多个吸引机构。
5.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述已抛光衬底接收器包括用于使衬底倾斜的倾斜机构。
6.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括:
取走辅助件,所述取走辅助件包括可平行于所述已抛光衬底接收器的衬底保持表面由移动机构移动的绳索、杆和板中的至少一个。
7.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括:
用于将气体喷入所述衬底和所述机头之间间隙中的气体喷嘴。
8.如权利要求2所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述已抛光衬底接收器包括用于密封所述衬底的外围部分的密封机构。
9.如权利要求2所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述清洗和干燥单元包括用于施加气体以干燥衬底的已清洗区域的干燥机构。
10.如权利要求2所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述清洗和干燥单元包括用于吸收或去除附着在所述衬底的已清洗区域上的清洗液的清洗液去除机构。
11.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述抛光台包括用于冷却抛光台的多个翅片。
12.如权利要求11所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述翅片具有防止所述抛光台挠曲的功能。
13.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括形成在所述抛光台的外部周围边缘上的槽、和啮合在所述槽内的凸轮随动件。
14.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括位于所述抛光台的外部周围边缘附近的位移传感器,用于检测所述抛光台的位移。
15.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括形成在所述抛光台的上表面上的多个浆液出口、和用于将所述抛光工具压靠所述浆液出口的外围边缘的多个加压部件。
16.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括形成在所述抛光台的上表面上的多个浆液出口,所述浆液出口位于在所述衬底被抛光时与所述衬底的待抛光表面保持接触的所述抛光台的区域内。
17.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括位于所述抛光台的外部周围部分上的管,用于在送入所述管内的压缩气体的压力作用下将所述抛光工具的外部周围部分推离所述抛光台。
18.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括位于所述抛光台上方的气体浓度传感器。
19.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,还包括用于修整所述抛光工具表面的修整器工具,所述修整器工具包括用于排出水的水出口。
20.如权利要求1所述的衬底抛光设备,其特征在于,所述抛光工具包括安装在所述抛光台的上表面上的抛光垫,所述抛光台包括用于在所述抛光台和所述抛光垫之间排放水和化学制品中的至少之一的出口。
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