[发明专利]基板的显影处理方法以及基板的显影处理装置

权利要求书

1.一种基板的显影处理方法，包括：

显影工序，该显影工序向形成于基板表面的曝光后的抗蚀膜上供给显影液，由此对抗蚀膜进行显影处理；

漂洗工序，该漂洗工序在使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转的同时，向形成于基板表面上的显影处理后的抗蚀膜上供给漂洗液而进行漂洗处理；

干燥工序，该干燥工序使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转，从而对形成于基板表面上的漂洗处理后的抗蚀膜进行干燥，其特征在于，

在上述显影工序之后，使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转，使得基板表面上的显影液被离心力飞散而被除去，并且在基板表面上观察不到干涉条纹的时刻，向上述漂洗工序转移。

2.如权利要求1所述的基板的显影处理方法，其特征在于，

在上述显影工序中，相对于保持为水平姿势的静止状态的基板、或者以低速旋转的基板，使在下端面具有狭缝状吐出口的狭缝喷嘴沿着与狭缝状吐出口垂直相交的方向直线移动，同时，从上述狭缝状吐出口向基板表面的抗蚀膜上吐出显影液，从而在抗蚀膜的整个面上以膜状盛满显影液。

3.如权利要求1所述的基板的显影处理方法，其特征在于，

在上述显影工序中，在使基板以水平姿势绕着铅直轴周围旋转的同时，从直线型喷嘴的前端吐出口向基板的中心部吐出显影液，从而使显影液在基板表面的抗蚀膜的整个面上扩散，由此涂敷显影液，

从上述显影工序继续使基板旋转，使得基板的表面上的显影液被离心力飞散而被除去。

4.如权利要求1～3中任一项所述的基板的显影处理方法，其特征在于，

在上述显影液除去工序中，向旋转的基板的中心部供给干燥用气体。

5.如权利要求1～3中任一项所述的基板的显影处理方法，其特征在于，

在上述显影液除去工序中，向旋转的基板的中心部供给干燥用气体，并且，将干燥用气体的供给位置从基板的中心部扫描到周边部。

6.一种基板的显影处理装置，具有：

基板保持装置，该基板保持装置将基板保持为水平姿势；

基板旋转装置，该基板旋转装置使被该基板保持装置保持的基板绕着铅直轴周围旋转；

显影液吐出喷嘴，该显影液吐出喷嘴向形成于被上述基板保持装置保持的基板的表面上的曝光后的抗蚀膜上吐出显影液；

漂洗液吐出喷嘴，该漂洗液吐出喷嘴向形成于基板表面上的显影处理后的抗蚀膜上吐出漂洗液，其特征在于，具有：

干涉条纹检测装置，该干涉条纹检测装置拍摄基板的表面，并根据其拍摄数据，检测在基板表面上有无干涉条纹；

控制装置，该控制装置分别控制上述基板旋转装置、上述显影液吐出喷嘴以及上述漂洗液吐出喷嘴，使得在从上述显影液吐出喷嘴向形成于基板表面的曝光后的抗蚀膜上吐出显影液，由此对抗蚀膜进行了显影处理之后，继续使基板旋转，使得基板的表面上的显影液被离心力飞散而被除去，并在基板表面上通过上述干涉条纹检测装置检测不到干涉条纹的时刻，从上述漂洗液吐出喷嘴向形成于基板表面的显影处理后的抗蚀膜上吐出漂洗液而进行漂洗处理。

7.如权利要求6所述的基板的显影处理装置，其特征在于，

上述显影液吐出喷嘴是狭缝状喷嘴，该狭缝状喷嘴在下端面具有狭缝状吐出口，并相对于被上述基板保持装置保持的静止状态的基板、或者以低速旋转的基板，沿着与上述狭缝状吐出口垂直相交的方向直线移动，同时，从上述狭缝状吐出口向基板表面的抗蚀膜上吐出显影液，从而在抗蚀膜的整个面上以膜状盛满显影液。

8.如权利要求6所述的基板的显影处理装置，其特征在于，

上述显影液吐出喷嘴是直线型喷嘴，该直线型喷嘴从前端吐出口向被上述基板保持装置保持、且被上述基板旋转装置以低速旋转的基板的中心部吐出显影液，从而使显影液在基板表面的抗蚀膜的整个面上扩散，由此涂敷显影液。

9.如权利要求6～8中任一项所述的基板的显影处理装置，其特征在于，

还具有气体喷出喷嘴，该气体喷出喷嘴用于向形成于基板表面的显影处理后的抗蚀膜上喷出干燥用气体。

10.如权利要求9所述的基板的显影处理装置，其特征在于，

上述气体喷出喷嘴从其喷出口向基板的表面上喷出干燥用气体，同时，使喷出口从与基板的中心相对置的位置扫描到与基板的周边相对置的位置。