[发明专利]衬底处理装置

权利要求书

1.一种衬底处理装置，具有：

以层合的状态收纳多个衬底的处理室；

对所述衬底和所述处理室内的环境气体进行加热的加热装置；

供给原料气体的第一气体供给装置，所述原料气体在由所述加热装置加热的所述处理室内的环境气体的温度下发生自分解；

供给氧化气体的第二气体供给装置；

排出所述处理室内的环境气体的排出装置；以及

至少对所述第一气体供给装置、所述第二气体供给装置以及所述排出装置进行控制的控制部，

所述第一气体供给装置还具有至少一个向所述处理室导入所述原料气体的第一导入口，

所述第一导入口避开收纳于所述处理室内的所述衬底侧的方向而开口，

所述第二气体供给装置还具有至少一个向所述处理室导入所述氧化气体的第二导入口，

所述第二导入口向着收纳于所述处理室内的衬底侧的方向而开口.

所述第一气体供给装置还具有沿着所述衬底的层合方向延伸设置的第一喷嘴，在所述第一喷嘴的前端设有一个所述第一导入口，

所述第二气体供给装置还具有沿着所述衬底的层合方向延伸设置的第二喷嘴，

在所述第二喷嘴的侧壁设有多个所述第二导入口，

所述加热装置将所述衬底和所述处理室内的环境气体加热到180～250℃，

所述控制部控制所述第一气体供给装置、所述第二气体供给装置以及所述排出装置，以便向所述处理室交替地供给作为所述原料气体的四(甲基乙基氨基)铪和作为所述氧化气体的臭氧并进行排气，从而在所述衬底上生成氧化铪膜。

2.一种衬底处理装置，具有：

以层合的状态收纳多个衬底的处理室；

对所述衬底和所述处理室内的环境气体进行加热的加热装置；

供给原料气体的第一气体供给装置，所述原料气体在由所述加热装置加热的所述处理室内的环境气体的温度下发生自分解；

供给氧化气体的第二气体供给装置；

排出所述处理室内的环境气体的排出装置；以及

至少对所述第一气体供给装置、所述第二气体供给装置以及所述排出装置进行控制的控制部，

所述第一气体供给装置还具有至少一个向所述处理室导入所述原料气体的第一导入口，

所述第一导入口避开收纳于所述处理室内的所述衬底侧的方向而开口，

所述第二气体供给装置还具有至少一个向所述处理室导入所述氧化气体的第二导入口，

所述第二导入口向着收纳于所述处理室内的衬底侧的方向而开口，

所述控制部控制所述第一气体供给装置、所述第二气体供给装置以及所述排出装置，以便向所述处理室交替地供给所述原料气体和所述氧化气体并进行排气，从而在所述衬底上生成所需要的膜。

3.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述第一气体供给装置还具有沿着所述衬底的层合方向延伸设置的第一喷嘴，在所述第一喷嘴的前端设有一个所述第一导入口，

所述第二气体供给装置还具有沿着所述衬底的层合方向延伸设置的第二喷嘴，在所述第二喷嘴的侧壁设有多个所述第二导入口。

4.如权利要求3所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述的各个第二导入口在所述层合方向上以规定间隔设置在所述第二喷嘴上。

5.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述原料气体从所述第一导入口向着所述处理室的顶部方向沿垂直方向导入所述处理室内，

所述氧化气体从所述的各个第二导入口沿水平方向导入所述处理室内。

6.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述加热装置将所述衬底和所述处理室内的环境气体加热到180～250℃，

所述原料气体是四(甲基乙基氨基)铪，所述氧化气体是臭氧，在所述衬底上，作为所述膜，生成氧化铪膜。

7.如权利要求2所述的衬底处理装置，其特征在于，

所述原料气体主要通过扩散而供给到所述衬底，

所述氧化气体主要通过气体流动而供给到所述衬底。