[发明专利]等离子体显示面板和形成等离子体显示面板的障肋的方法无效
| 申请号: | 200710151923.7 | 申请日: | 2007-09-20 |
| 公开(公告)号: | CN101150031A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
| 发明(设计)人: | 宋正锡 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号: | H01J9/24 | 分类号: | H01J9/24;H01J17/16;H01J17/04;H01J17/49 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陆弋;朱登河 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子体 显示 面板 形成 方法 | ||
1.一种形成等离子体显示面板的障肋的方法,包括:
在衬底上提供障肋层;和
选择性地去除所述障肋层的若干部分,以形成限定多个第一和第二放电单元的障肋结构,该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面,所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。
2.根据权利要求1所述的方法,其中:
提供所述障肋层这一步骤包括在所述衬底上形成第一障肋层和第二障肋层,所述第一和第二障肋层在所述衬底上邻接并具有不同的蚀刻速度;并且
选择性地去除这一步骤包括
提供蚀刻掩模以暴露出所述第一障肋层的预定区域和所述第二障肋层的预定区域,并且
使用所述蚀刻掩模来蚀刻所述第一和第二障肋层的暴露出的预定区域。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述第一障肋层具有针对蚀刻溶液的第一蚀刻速度,所述第二障肋层具有针对所述蚀刻溶液的第二蚀刻速度,所述第二蚀刻速度慢于所述第一蚀刻速度。
4.根据权利要求2所述的方法,其中形成所述第一障肋层和第二障肋层这一步骤包括:
在所述衬底上将形成所述第一放电单元之处提供所述第一障肋层;并且
在所述衬底上将形成所述第二放电单元之处提供所述第二障肋层。
5.根据权利要求4所述的方法,其中形成第一障肋层这一步骤进一步包括在所述第一障肋层上提供第三障肋层。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一和第二放电单元被提供以不同的荧光材料。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述不同的荧光材料产生不同颜色。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一放电单元在数量上为所述第二放电单元的两倍,且所述至少一个障肋位于其中一个所述第一放电单元和其中一个所述第二放电单元之间。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述至少一个障肋限定邻接的具有不同宽度的放电单元。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一放电单元的内表面面积大于所述第二放电单元的内表面面积。
11.根据权利要求1所述的方法,其中选择性地去除这一步骤包括:
在所述障肋层上提供第一蚀刻掩模,以暴露出所述障肋层上的将形成第一放电单元的第一预定区域;
使用具有针对所述障肋层的第一蚀刻速度的第一蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层;
在所述障肋层上提供第二蚀刻掩模,以暴露出该障肋层上将形成第二放电单元的第二预定区域;
使用具有针对所述障肋层的第二蚀刻速度的第二蚀刻溶液来蚀刻所暴露出的障肋层,其中该第二蚀刻速度不同于所述第一蚀刻速度。
12.根据权利要求11所述的方法,其中所述第二蚀刻速度慢于所述第一蚀刻速度。
13.一种等离子体显示面板,包括:
后衬底;
与所述后衬底隔开预定距离的前衬底;和
在所述前衬底和后衬底之间的障肋结构,该障肋结构限定多个第一和第二放电单元,该障肋结构中的至少一个障肋具有沿其中轴线不对称的水平横截面,所述第一和第二放电单元具有不同的内表面面积。
14.根据权利要求13中所述的等离子体显示面板,其中所述至少一个障肋包括在所述衬底上的第一材料和在所述衬底上的第二材料,所述第二材料邻接所述第一材料,所述第一材料的第一侧壁与所述第二材料的第二侧壁具有不同斜率。
15.根据权利要求14所述的等离子体显示面板,其中所述至少一个障肋进一步包括在所述第一材料上的第三材料,所述第二材料邻接所述第三材料。
16.根据权利要求15所述的等离子体显示面板,其中所述第二和第三材料相同。
17.根据权利要求15所述的等离子体显示面板,其中所述第三材料的第三侧壁与所述第一侧壁具有不同斜率。
18.根据权利要求13所述的等离子体显示面板,其中所述至少一个障肋由单一材料制成。
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