[发明专利]准分子光照射装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种准分子光照射装置，特别是涉及在半导体或液晶基板的制造工序中用于清洁基板等的准分子灯装置，制作该清洁时的氛围的结构具有特点的准分子光照射装置。

背景技术

近来的半导体或液晶基板的制造工序中，作为除去硅晶片或玻璃基板表面上附着的有机化合物等污物的方法，广泛利用使用紫外线进行干式清洁的方法。尤其在利用准分子灯放射出的真空紫外线的臭氧等活性氧进行清洁的方法中，提出了种种清洁装置，能够更高效率地在短时间内进行清洁。作为现有的这种技术，例如公知的有特开2001-137800号公报等。

根据该公报，记载了清洁基板表面的基板处理装置，在变为氮气氛围的灯壳内，配置有多根准分子灯，从该准分子灯放射的紫外线照射由辊带传送到该灯壳内的基板上，并利用臭氧等活性氧分解有机物，变换为挥发物质并除去。

但是，在这种基板处理装置中，在要进行处理的基板搬入该基板处理装置时，会有在搬入的入口部处卷入氧气而产生处理偏差的问题。并且，在该入口部和该出口处，氛围气体内的氧气浓度不均匀，存在无法进行整体均匀的处理的问题。进而，随着液晶玻璃基板等作为处理对象物的该基板的大型化，利用平板状窗玻璃本身成为大问题。这些问题是处理随着大型化变得麻烦，由于玻璃自重而产生弯曲，为了防止弯曲而增加厚度时，由于吸收的问题产生照度降低，相对于装置，窗玻璃本身的成本变得非常大等。

鉴于上述问题，在利用准分子灯的准分子光照射装置中，也逐渐开发不利用窗玻璃的装置。作为这种技术，例如公知的有特开2001-113163号公报、特开2006-134983号公报等。根据该特开2001-113163号公报，记载了一种对作为被处理物的基板面照射紫外线来进行处理的紫外线照射装置，具有在大气中保持该基板的支撑台；放射175nm以下波长的光的光源；以及使不活泼气体流入该基板面上方的大气中的空间的不活泼气体流入装置。并且，根据特开2006-134983号公报，记载了一种将从准分子灯放射的准分子光向被处理物照射的装置，其形成有不活泼气体流通部，所述不活泼气体流通部具有将不活泼气体排出到并列配置的多根该准分子灯之间的喷出口。以下表示现有准分子光照射装置的概要。

图8表示现有准分子光照射装置的概要图。在准分子光照射装置101中，在灯壳103中并列配置多根圆筒状的准分子灯102。在该灯壳103中，设有上板111和侧板112，该灯壳103下方采用不具有玻璃窗的结构。在该灯壳103内设置的该准分子灯102之间设有具有喷出不活泼气体的喷出口105的不活泼气体流通部104。并且，向该准分子光照射装置101下方传输基板115，利用该准分子灯102放射的准分子光进行清洁处理。并且，在该准分子光照射装置101的灯壳103内设置的该不活泼气体流通部104中，作为不活泼气体流有氮气。该氮气从该喷出口105喷出到该准分子光照射装置101下方，吹到该基板115上。在该准分子光照射装置101下方且在该基板115的周边，通过从该喷出口105喷出的氮气，形成真空紫外区的光可以透过的氧气浓度低的置换空间。

但是，在将氮气吹到该基板115上的现有技术中，存在不活泼气体的使用量很大，不仅制造成本高，并且搬运液晶玻璃基板等时，该基板的前端部、中央及后端部的氧气浓度不均匀，产生处理偏差的问题。并且，在图8所示的现有装置中，也存在该不活泼气体流通部上方的空间不会由氮气等置换，因此吹到基板面上的氮气中卷入的氧气浓度产生较严重的不均匀，还产生与氧气浓度的不均匀相应的严重的处理偏差的问题。

专利文献1：日本专利公布2001-137800号公报

专利文献2：日本专利公布2001-113163号公报

专利文献3：日本专利公布2006-134983号公报

本发明要解决的问题是提供一种准分子光照射装置，在利用准分子光的液晶面板用玻璃基板等的清洁装置中，即使是未配置大面积的板状玻璃窗的装置，也能使氢气置换时的气体使用量变少。进而，提供一种准分子光照射装置，即使对大型基板进行清洁，也能减少清洁偏差。

发明内容

本发明的准分子光照射装置，对被搬运的基板照射准分子光，其特征在于：在灯壳内并列配置有多根大致棒状的准分子灯，具有传送基板的搬运装置，在所述灯壳内设有间隔壁部件，在该间隔壁部件和各个准分子灯之间形成狭窄部，在该比灯壳内的该狭窄部靠该准分子灯上方形成第一置换空间，在比该狭窄部靠该准分子灯下方即基板侧形成第二置换空间，在该第一置换空间侧设有喷出包括不活泼气体的气体的喷出口。