[发明专利]发光装置有效

专利信息
申请号: 200710148234.0 申请日: 2007-08-28
公开(公告)号: CN101135429A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 上野洋;糸鱼川贡一 申请(专利权)人: 株式会社东海理化电机制作所
主分类号: F21V8/00 分类号: F21V8/00;F21V7/04;F21V11/08
代理公司: 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 尹洪波
地址: 日本国爱知县丹羽*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种发光装置(1),包括:

盖板(2),包括多个照明窗(5a,5b);

光源(12),其设置于所述盖板中对应于所述照明窗中第一照明窗(5a)的位置从而以第一方向发光;

板形光导(8),其沿垂直于所述第一方向的平面设置于所述盖板与所述光源之间;

第一反射结构(17a,17b),其形成于所述光导上对应于所述光源的位置,所述第一反射结构使所述光源所发出的一部分光朝向所述第一照明窗发射,并且对剩余光进行扩散及反射以将所述剩余光导入所述光导;及

第二反射结构(18),其形成于所述光导上,其位置与对应于所述光源的位置相隔开,并且与除所述第一照明窗之外的所述照明窗中较远的一个(5b)相对应,以使所述导入所述光导的光朝向所述较远照明窗反射。

2.如权利要求1所述的发光装置,其中:

所述光导包括朝向所述多个照明窗的第一主表面以及朝向所述光源的第二主表面;及

各所述第一反射结构及所述第二反射结构由形成于所述第一主表面与所述第二主表面至少之一上的粗糙表面部来界定。

3.如权利要求2所述的发光装置,其中,所述第一反射结构与所述第二反射结构中的任意一个包括形状及尺寸受到控制的多个凹陷(19)或多个凸部。

4.如权利要求2所述的发光装置,其中,各所述第一及第二反射结构由形成于所述光导的第一及第二表面中至少之一上的磨粒加工部界定。

5.如权利要求2所述的发光装置,其中,所述第一反射结构包括形成于所述光导的第一主表面上的第一粗糙表面部,以及形成于朝向所述第一粗糙表面部的所述第二主表面上的第二粗糙表面部。

6.如权利要求1所述的发光装置,其中,所述较远照明窗(5b)与直接位于所述光源的发射部之上方的位置隔开。

7.如权利要求1所述的发光装置,其中,通过所述第一反射结构的光量与由所述第二反射结构朝向所述较远照明窗反射的光量基本相同。

8.一种发光装置(1),包括:

光源(12);

板形光导(8),其沿与所述光源发光的方向垂直的方向延伸;

盖板(2),其覆盖所述光导板并且包括多个由所述光源所发光照明的照明窗,所述多个照明窗包括直接设置于所述光源的发射部之上方的第一照明窗(5a)以及设置在与所述光源相隔开并且与所述第一照明窗(5a)相隔开之位置的较远照明窗(5b);

所述光导包括:

局部形成于与所述光源(12)及所述第一照明窗(5a)相对应之位置的第一反射结构(17a,17b);及

局部形成于与所述较远照明窗(5b)相对应之位置的第二反射结构(18),所述第一反射结构将受控量的所述光源所发光朝向所述第一照明窗传输并且将剩余光导入所述光导,并且所述第二反射结构将受控量的导入所述光导的光朝向所述较远照明窗反射。

9.如权利要求8所述的发光装置,其中,通过所述第一反射结构的并且指向所述第一照明窗的光量与由所述第二反射结构朝向所述较远照明窗反射的光量基本相同。

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