[发明专利]适用多种加热方式的烹煮器具无效
申请号: | 200710145782.8 | 申请日: | 2007-09-07 |
公开(公告)号: | CN101380194A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 萧侃 | 申请(专利权)人: | 鼎麟股份有限公司 |
主分类号: | A47J27/00 | 分类号: | A47J27/00;A47J36/02;A47J36/04 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 钱 凯 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适用 多种 加热 方式 烹煮 器具 | ||
技术领域
本发明涉及一种适用多种加热方式的烹煮器具。
背景技术
饮食排列在食、衣、住、行、育、乐等人类最基本的民生需求的首位,所谓的民以食为天,其重要性可见一斑,而随着文明的进步,现代人的饮食习惯亦与过去产生了很大的差异,除了烹煮与调理食物的手法以及技巧外,扮演着与饮食息息相关的重要角色的烹煮器具亦随之日新月异。
为了追求便利与节省空间,目前市面上可见许多适用于多种烹饪方式的烹煮锅体,其目的在于以一种烹煮锅体即可以取代于各种烹饪方式中所必须准备的对应器皿,现有技术中一种常见的多功能烹煮锅体中,其除了可以如一般的锅具置放于瓦斯炉上以及烤箱内进行烹煮动作之外,更进一步的利用熔射等表面处理技术于锅体的底部喷覆有一层导磁层,以借该导磁层的特性令锅体可以配合使用于微波炉或电磁炉等需要导磁效果以加热的炉具进行烹煮。
然而目前较常见的现有技术的多功能烹煮锅体诸如欧洲专利号EP1599116、PCT第WO2005060802号申请案、日本专利号JP11185945、JP2000237045、JP2006014761、JP2006246998等前案中,其锅体皆为利用不透明的金属或陶瓷等材质所制成,因此在烹煮的过程中,使用者无法直接观察其内部的烹煮情况,故难以掌控烹煮食材的状态以调整火侯,这对于锅体运用于烹饪上而言为一不足之处,而于日本专利案号JP2000150125中提及以玻璃材质制成锅体,但由于玻璃材质具有耐热性质较之金属与陶瓷材质为低,且于熔射技术上来说,玻璃与导磁层之间必须额外熔射以一黏合层以固定导磁层,对于实用价值与制造的成本考虑间而言为一较不利的因素。
再者,目前于美国专利号US4194042中提出一种以玻璃陶瓷作为材质的多功能导磁锅体,其利用玻璃陶瓷具有高耐热性、高耐热冲击性、高热传导性、以及硬度高且具有透明性质等特色,提供使用者一种适用于多种烹煮环境,且更可于烹煮时直接观察锅体内烹煮状况的功能,但由于其导磁层直接暴露于锅体的底面上,因此,使用者常常发现于使用此类未于导磁层外部附有保护层的烹煮锅体时,锅体再经历了一段时间的使用后,其导磁层上易因经常性使用的移动或者使用时的摆设与置放等动作的不够轻巧而留下磨损与刮痕,这些斑驳的痕迹除了妨碍锅体的美观外,亦因导磁层于加热时易因受热面分布不均而于部分位置产生热集中点,而进一步令该锅体自热集中点处产生破裂或者损坏而导致使用寿命减短,由此可见,仅在锅体底部分布有单一层导磁层的现有技术在实用性上确有其不足之处。
发明内容
本发明所要解决的主要技术问题在于,克服现有技术存在的上述缺陷,而提供一种适用多种加热方式的烹煮器具,其能够提高该器皿的使用寿命。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种适用多种加热方式的烹煮器具,其包含一锅体,其为一玻璃陶瓷所制的容器体,且其具有一底壁,并于底壁朝上延伸形成有周壁,周壁围绕形成有一烹煮空间;一导磁层,其是由导磁性材质熔射喷覆于底壁的外端面;一耐磨保护层,其是由耐高温的硬质金属熔射喷覆于导磁层上;一抗氧化保护层,其是由不易氧化且具有导磁性的金属材质熔射喷覆于耐磨保护层之上。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中可进一步包含有一抗氧化保护层,其是由不易氧化且具有导磁性的金属材质熔射喷覆于耐磨保护层之上。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中锅体为玻璃陶瓷材质。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中抗氧化保护层的材质为铝。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中抗氧化保护层的材质为铝合金。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中耐磨保护层的材质为不锈钢。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中耐磨保护层的材质为钨。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中耐磨保护层的材质为不锈钢。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中耐磨保护层的材质为钨。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中导磁层的材质为铝。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中导磁层的材质为锌。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中导磁层的材质为铝合金。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中抗氧化保护层的熔射细度介于0.5微米至6微米,熔射间隙介于0.5微米至5微米,熔射厚度介于10微米至100微米。
前述的适用多种加热方式的烹煮器具,其中抗氧化保护层的熔射细度介于1微米至3微米,熔射间隙介于1微米至3微米,熔射厚度介于20微米至50微米。
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