[发明专利]化学过滤网装置无效

专利信息
申请号: 200710143891.6 申请日: 2007-08-06
公开(公告)号: CN101362040A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 郑石治;林哲弘;陈寿忠;徐瑞珠;刘邦昱;洪守铭 申请(专利权)人: 华懋科技股份有限公司
主分类号: B01D53/04 分类号: B01D53/04;B01D46/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 台湾省桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化学 过滤网 装置
【说明书】:

技术领域

发明是有关一种化学过滤网装置,尤其是指一种由侧框内设有吸附单元,该吸附单元的二外侧各设有滤网,而该二滤网间设有一支撑结构,且该支撑结构中设有吸附剂,以提供使用于过滤空气的化学过滤网装置,适用于电子制造业的无尘室如IC、TFT、半导体制造业的无尘室或类似场地。

背景技术

随着半导体技术不断的进步,IC工艺线径不断的缩小,最新进的半导体技术已进入45nm,未来将更进一步地跨入22及32nm工艺技术,也由于IC线径不断的缩小,因此外部空气或无尘室内中含微污染(AirborneMolecular Contamination,AMC)物质,例如含硫物质:SOX、H2S、DMSO(Dimethyl Sulfoxide,(CH3)2SO)、DMS(Dimethyl Sulfide,(CH3)2S)等,酸性物质:NOX,碱性物质:NH3、MEA(Monoethanol Amine,NH2C2H4OH)等,含低沸点的挥发性有机化合物(Volatile OrganicCompounds,VOCs)、IPA(Isopropyl Alcohol,C3H7OH)、丙酮等,以及含高沸点的挥发性有机化合物(Volatile Organic Compounds,VOCs)等,对于工艺良率的影响,日益扩大。为了提升工艺良率,半导体厂通常需于外气空调箱及气流循环区加装化学过滤网。

公知的化学滤网往往无法兼顾去除成份、去除效率、压力损失、使用寿命及制造成本等因素,故实际使用上仍不符使用者的所需。

发明内容

本发明的目的在于提供一种化学过滤网装置,以克服公知技术中存在的缺陷。

为实现上述目的,本发明提供的化学过滤网装置,包括:

一正面框,设有至少一开口;

至少一侧框,该侧框与该正面框固定结合为一体;以及

至少一吸附单元,该吸附单元的二外侧各设有滤网,而该二滤网间设有一支撑结构,该支撑结构中设有吸附剂,且该吸附单元结合于该侧框中;

由此,以提供一化学过滤网装置。

所述的化学过滤网装置,其中,该支撑结构设为复数个,而该些支撑结构区隔为数层,且该些支撑结构间进一步设有滤网,以此设置不同的吸附剂。

所述的化学过滤网装置,其中,该支撑结构为网格状结构。

所述的化学过滤网装置,其中,该支撑结构为蜂巢状结构。

所述的化学过滤网装置,其中,该支撑结构为条格状结构。

所述的化学过滤网装置,其中,该支撑结构的侧边设有开孔。

所述的化学过滤网装置,其中,该吸附单元进一步结合于一吸附剂边框后再与侧框结合,该吸附剂边框结合于该支撑结构的外围,而该吸附剂边框再结合于侧框的内侧。

所述的化学过滤网装置,其中,该吸附单元制成薄片型,以利降低压力损失。

所述的化学过滤网装置,其中,该滤网为不织布滤网。

所述的化学过滤网装置,其中,该滤网为细网。

所述的化学过滤网装置,其中,该正面框的开口上进一步设有滤网。

所述的化学过滤网装置,其中,该侧框于外侧进一步设有一保护网。

所述的化学过滤网装置,其中,该二滤网的外侧进一步设有至少一支撑辅助结构以支撑该滤网。

本发明提供的化学过滤网装置,由该吸附单元装设时可替换成多种型式的支撑结构与吸附剂,而使本发明的化学过滤网可适用于各种场合及不同环境的需求,使去除效率更佳且降低了过滤的压力损失,并提高了化学过滤网的使用寿命,降低制造成本,增加本发明的实用性与便利性。

附图说明

图1为本发明实施例的立体外观图。

图2为本发明实施例的使用示意图。

图3为本发明实施例吸附单元与吸附剂边框的组合示意图。

图4为本发明实施例滤网外侧设有支撑辅助结构的组合示意图。

图5为本发明实施例条格状支撑结构与侧框结合的组合示意图。

图6为本发明吸附单元与侧框的组合剖示图。

图7为本发明吸附单元(吸附剂设于二层支撑结构中)与侧框的组合剖示图。

附图中主要组件符号说明:

10、正面框

11、开口

20、侧框

30、吸附单元

301、吸附剂

302、滤网

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华懋科技股份有限公司,未经华懋科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710143891.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top