[发明专利]疏水性表面的掩模无效
| 申请号： | 200710143734.5 | 申请日： | 2007-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN101266403A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 郑智文 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/08;G03F1/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 疏水 表面 | ||
1. 一种疏水性表面的掩模，包括：
一基板；
多个图案，形成于该基板上；以及
一自组装单层，形成于未覆盖所述图案的该基板上。
2. 如权利要求1所述的疏水性表面的掩模，其中该基板由石英构成。
3. 如权利要求1所述的疏水性表面的掩模，其中所述图案由铬构成。
4. 如权利要求1所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层为烷基三氯硅烷层。
5. 如权利要求4所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层包括十八烷基三氯硅烷。
6. 如权利要求4所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层包括全氟十烷基三氯硅烷。
7. 如权利要求1所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层通过汽化工艺形成。
8. 如权利要求1所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层通过溶液工艺形成。
9. 一种疏水性表面的掩模，包括：
一基板；
一自组装单层，形成于该基板上；以及
一保护膜，设置于该基板上。
10. 如权利要求9所述的疏水性表面的掩模，其中该基板由石英构成。
11. 如权利要求9所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层为烷基三氯硅烷层。
12. 如权利要求11所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层包括十八烷基三氯硅烷。
13. 如权利要求11所述的疏水性表面的掩模，其中该自组装单层包括全氟十烷基三氯硅烷。
14. 如权利要求9所述的疏水性表面的掩模，其中该保护膜由硝化纤维素构成。
15. 如权利要求9所述的疏水性表面的掩模，其中该保护膜通过一保护架设置于该基板上。
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