[发明专利]具有季铵基团的新型聚硅氧烷、其制备方法以及其在清洁和护理配制物中的应用

说明书

技术领域

本发明涉及具有季铵基团的新型聚硅氧烷及其制备方法。本发明进一步涉及这些聚合物的用途，其作为用于皮肤和外皮附属物的护理和清洁配制物中的添加剂，例如作为头发的护发剂，以及用于硬表面的清洁和护理，如在车辆清洗中作为添加剂。

背景技术

具有季铵基团的聚硅氧烷以及它们作为头发护理添加剂或织物软化剂的应用在专利文献中是已知的。因此，例如，DE B 14 93 384描述了如下结构，其中硅氧烷在侧基中由随机分布在整个聚合物上的铵基所改性。这些化合物具有的缺点是显著的聚硅氧烷特性被降低并且再不能观察到良好的活性。

阳离子型聚硅氧烷，如在DE 37 19 086和EP 0 282 720中所描述，具有更显著的聚硅氧烷特性。EP 0 282 720描述的结构中季铵官能团(quaternary functions)是末端键合至硅氧烷上。对于作为用于头发和织物以及用于硬表面的调节剂的作用，这些化合物具有优点。然而，仅可以获得两个阳离子中心，这经常导致在表面上的直染性(substantivity)不足。

DE-A 33 40 708公开了多季铵(polyquaternary)的聚硅氧烷聚合物。这种类型的多季铵聚硅氧烷聚合物不具有上述缺点。然而，这些化合物复杂的制备方法阻碍了它们在实际中的应用。这些化合物的理论产率＜60％，这在经济上不可接受。

人的头发每天暴露于非常宽范围的各种影响。除了因刷头、梳头、卡别饰物或挽结所产生的机械应力外，头发还受到环境影响的侵害，如强UV照射、寒冷、风和水。相应个人的生理状况(例如年龄、健康)也影响角蛋白纤维的状态。

具体地说，用化学组合物的处理改变了头发的结构和表面性能。诸如烫发、漂白、染色、着色、平滑等的方法，以及用侵蚀性表面活性剂进行经常的洗涤都是对头发结构造成或多或少损害的促进因素。因此，例如在烫发的情况下，头发的皮质和角质层均受到侵害。胱氨酸的二硫桥键被还原步骤断裂并且在后续氧化步骤中部分地被氧化为磺基丙胺酸。

在漂白时，不仅黑素被破坏而且另外从约15％至25％的胱氨酸的二硫键在温和漂白的情况下被氧化。在过度漂白的情况下，这种情况甚至可高达45％(K.F.de Polo，A Short Textbook of Cosmetology，2000，Verlag für chemische Industrie，H.Ziolkowsky GmbH)。

因此，化学处理、频繁洗涤或UV照射对头发的机械性能造成不利影响，这是因为去除了天然分泌的头发油脂或头发润湿剂(皮脂)。因此头发变得脆弱、干燥、暗淡、多孔以及不易梳理。

另外，彻底清洗的头发通常非常难以梳理，在湿润状态和在干燥状态均是如此，因为单根的头发趋于卷曲和打结。因此首先在洗涤期间并随后在梳理期间头发失去了其抵抗力。这一点从在湿润头发的情况下拉伸强度的显著降低可明显看出。另外，它比健康头发对由化学品、表面活性剂和环境影响造成的进一步损害的抵抗力更低。

对于这种受损头发的护理，有一些专门制剂，诸如护发剂(conditioner)、头发修复处理剂、洗发剂、深层护发剂(leave-inconditioner)等，然而，它们具体能够改善受损头发的可梳性、手感和光泽。这样的可商购头发护理组合物主要包含基于烷基铵的阳离子表面活性剂类、聚合物类、蜡类或油类或硅油类。除其他因素外，这些化合物的活性是归因于对头发表面赋予斥水性。

在所有这些组合物的情况下，实现了对头发好的护理效果(调理)，但是这些护理产品并没有改善外观，特别是头发的光泽，并且在有些情况下甚至产生有害影响。

因此仍然存在对用于个人卫生的多用途活性物质和护理组合物的需要，如洗发剂、头发处理组合物以及头发后处理组合物，它们除了清洗效果外，还在改善头发护理的同时赋予好的光泽，它们保护头发免受对头发结构的损害，并且它们将由于环境影响以及发型和染色处理对头发已经造成的结构损害减为最小。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种活性物质，它能够同时改善未受损和受损头发的多种性能，诸如可梳理性、柔软性、体积、可成型能力，手感性能和疏解性能，并且赋予头发引人注目的光泽。因此这些化合物应该呈现出改善的或至少是同等良好的单独效果，而总体上呈现出机械和其他性能的改善的组合效果。