[发明专利]一种非晶硅纳米颗粒的制备方法无效
申请号: | 200710133857.0 | 申请日: | 2007-10-10 |
公开(公告)号: | CN101172607A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 陈晓原;刘治国;刘俊明 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021;B82B3/00 |
代理公司: | 南京苏高专利事务所 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210093江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 非晶硅 纳米 颗粒 制备 方法 | ||
1.一种非晶硅纳米颗粒的制备方法,其特征是该方法包括以下步骤:
(1)制备溶液:选用去离子水为溶液用以制备不含表面活性剂包覆的硅颗粒;或配置浓度范围在1.0-5.0mmol/L的十六烷基三甲基溴化铵溶液用以制备表面活性剂包覆的硅量子点;
(2)激光烧蚀液体环境中的硅靶:将硅靶置于盛有步骤(1)所制备的溶液的烧杯中,然后用准分子激光束辐照硅靶;
(3)取出硅靶,溶液中即含有所制备的非晶态硅量子点。
2.根据权利要求1所述的非晶硅纳米颗粒的制备方法,其特征是在步骤(2)中所述的准分子激光,为ArF,KrF或XeCl激光。
3.根据权利要求1所述的非晶硅纳米颗粒的制备方法,其特征是在步骤(2)中,在辐照期间,烧杯放置在一个可水平移动的电动平台上,以使激光束在靶上进行扫描。
4.根据权利要求1所述的非晶硅纳米颗粒的制备方法,其特征是在步骤(2)中,硅靶要完全浸入到溶液中,深度不超过5毫米。
5.根据权利要求1所述的非晶硅纳米颗粒的制备方法,其特征是在步骤(2)中,激光束通过透镜进行聚焦,焦点大小在4-10mm2,激光的能量密度在1×108-2×108W/cm2之间。
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