[发明专利]用于确定最优写入功率的光盘记录装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过使用激光在光盘上执行写入的光盘记录装置。本发明尤其涉及一种为在光盘上执行写入而设定了最优写入功率的光盘记录装置，以及一种用来在该光盘记录装置中确定最优写入功率的方法。

背景技术

在光盘记录中确定并控制最优写入功率的方法中(此后，最优写入功率简写为Po，最优功率控制简写为OPC)，通常Po是通过算术上处理写入特性被计算出来，诸如在写入时反射系数的波动、写入后的不对称、幅度、调制的深度以及通过在适合获得Po的写入功率附近(此后，简写为Pm)选择的几个点上通过试写(test writing)而获得的抖动(此后，该一系列处理简称为Po操作)。

然而，直到执行OPC，Pm的确切值才是可用的。为此，以可以估计的足够宽的范围的写入功率执行试写，在由此获得的写入特性的基础上选择Pm，并且使用在由此选择的Pm附近的点的写入特性来执行Po操作。

在OPC中，当光盘在旋转时，在光盘的连续的记录轨道中执行试写。用被改变的写入功率来执行试写。然而，在现有技术中，写入功率简单地从最低变化到最高，或者相反。由此导致的问题是写入功率依赖于在光盘上的位置。

图1示意性地展示了现有技术中的OPC方法。为了便于解释，在该情况下的示例包括频率为θt的正弦波形式的写入灵敏度波动。在该例中执行试写的功率(此后，数目简写为N)的数目是6，但对于每个实际情况该数目可以变化。P(i)是一系列试写功率，E(i)是一系列通过以P(i)执行试写而获得的写入特性。为了解释的容易理解，在该例中试写功率系列P(i)中的写入功率被设定为随着值i的增加而增加，但是本发明并不局限于此。

P(i)i：0到N-1  ...(1)

P(i)＜P(i+1)  ...(2)

通常，在OPC中，用被改变的试写功率来在旋转光盘的特定的连续的位置上执行试写。图1展示了从表示为θs的试写起始位置执行试写，写入功率为P(0)到P(5)。接着，使用由此获得的写入特性E(i)执行Po操作。该例展示了{P(1)+P(2)}/2被选择为Pm，并且在Pm附近的写入特性E(1)和E(2)被选择用于Po操作。通过如图所示的这种写入灵敏度波动，Po值将是对应于状态的值，在该状态中，通过Po操作获得的写入灵敏度为高，因为在该Po操作中使用的写入特性E(1)和E(2)是在高写入灵敏度的位置上测量的值。

每次执行试写时，写入灵敏度波动和试写起始位置θs之间的相位关系不同。图2展示了这样的例子。当在这样的相位关系下执行OPC时，所获得的Po值是与状态对应的值，在该状态中，写入灵敏度为低，因为写入特性E(1)和E(2)是在低写入灵敏度位置上测量的值。

图1和图2的示例展示了现有技术中OPC所具有的问题。特别地，所获得的Po值的改变是由写入灵敏度波动和试写起始位置之间的相位关系决定的，这将导致OPC中具有较低的正确度。

图2 3展示了现有技术中的OPC方法。在光盘1上以基本同心形式排列的圆形的弧线箭头展示了如何在光盘1上形成的螺旋记录轨道上执行试写。在靠近中心的位置上放置的数字分别指示光盘1上的位置。P(i)是写入功率，用它在每个如对应的圆形弧线箭头所示的部分中执行试写。为了便于解释，在写入功率系列中的写入功率的数目(N)在此图中被设定为8，但对于每个实际情况该数目可以变化。同样为了便于解释，写入功率P(i)被设定为随着值i的增加而增加。

图24展示了通过OPC获得的在光盘上的位置、写入功率和写入特性之间的关系。这里，E(i)是当以写入功率P(i)的对应的一个来执行试写时的写入特性。如上所述，在OPC中，选择适于获得Po的写入功率Pm，然后选择Po附近的几个点，然后执行Po操作。图24中的示例展示了P(3)被选为Pm，在所选Pm附近的写入功率P(2)、P(3)和P(4)，以及选择了写入特性E(2)、E(3)和E(4)。

顺便提及，由于各种原因，在光盘中发生不均匀(uneven)的写入灵敏度。这样的不均匀包括由于记录膜本身的特性引起的不均匀，由于覆盖膜和反射膜的特性引起的不均匀，以及由于指纹产生的污染引起的不均匀。关注在OPC上的影响，还包括由于光盘弯曲和连接误差导致的光盘与光学透镜的相对位置与相对角度的失配引起的外观不均匀(apparent unevenness)。