[发明专利]冷却式阳极

权利要求书

1.一种物理气相沉积装置，包括：

腔室主体，在其中具有处理空间；

一个或多个靶材；

基板支架；以及

一个或多个阳极，其设置在所述一个或多个靶材和所述基板支架之间，所 述一个或多个阳极每个都包含内壁和外壁，其中所述内壁限定在与所述内壁接 触时流过冷却流体的流体流径。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，进一步包含：

与每个阳极耦合的托架，其中所述托架成形以从该处悬挂所述阳极。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述托架耦合接地。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述一个或多个阳极包含 粗糙表面。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述一个或多个阳极的至 少一个阳极包含U形结构。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，进一步包含：

磁电管，其具有第一长度的第一段和小于所述第一长度的第二长度的第二 段，其中所述一个或多个阳极延伸经过基本垂直于所述第一段的所述处理空 间。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述磁电管相对于所述一 个或多个靶可移动。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述磁电管在二维上可移 动。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述一个或多个阳极的至 少一个阳极多次贯穿所述处理空间。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述一个或多个阳极耦合 至固定的接地元件。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述一个或多个阳极耦 合至柔性接地元件。

12.一种阳极组件，包含：

具有外壁的阳极主体、由内壁限定的中空通道、具有与其耦合的冷却流体 入口的第一端、和具有与其耦合的流体出口的第二端。

13.根据权利要求12所述的阳极组件，其特征在于，所述阳极主体包含 U形结构。

14.根据权利要求12所述的阳极组件，其特征在于，进一步包含与所述 阳极主体耦合的托架。

15.根据权利要求12所述的阳极组件，其特征在于，所述外壁包含粗糙 表面。

16.一种物理气相沉积方法，包含：

在腔室内与溅射靶材相对放置基座，以在所述靶材和所述基座之间限定处 理空间；

从所述靶材溅射材料以产生等离子体；

提供所述处理空间内的接地路径，所述接地路径横跨整个所述处理空间的 区域并包含内壁和外壁；以及

在冷却流体与所述内壁接触时，在所述接地路径内流过冷却流体。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，磁电管设置在所述溅射 靶材后面，所述磁电管包含具有第一长度的第一段和具有小于所述第一长度的 第二长度的第二段，所述方法进一步包含：

垂直与所述第一段流过所述冷却流体。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，进一步包含平移在所述 溅射靶后面的所述磁电管。

19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述磁电管在二维空间 中平移。

20.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，进一步包含：

产生延伸到所述处理空间中的磁场；以及

移动所述磁场。

21.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述冷却流体通过所述 腔室的相同侧进出所述接地路径。

22.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述接地路径包含具有 粗糙表面的阳极。