[发明专利]改进的无电镀铜组合物无效
申请号: | 200710127865.4 | 申请日: | 2007-07-06 |
公开(公告)号: | CN101104928A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | M·A·波勒;A·J·科布勒;A·辛格;D·V·赫斯特 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沙永生 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 镀铜 组合 | ||
1.一种组合物,其包含一种或多种铜离子源,一种或多种选自乙内酰脲和乙内酰脲衍生物的螯合剂,以及一种或一种选自果糖和果糖酯的还原剂。
2.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述螯合剂的含量为20-150克/升。
3.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述乙内酰脲衍生物选自1-甲基乙内酰脲,1,3-二甲基乙内酰脲,5,5-二甲基乙内酰脲和尿囊素。
4.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述还原剂的含量为10-100克/升。
5.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述果糖酯选自果糖己酸酯、果糖庚酸酯和果糖戊酸酯。
6.如权利要求1所述的组合物,其特征在于,所述组合物还包含一种或多种另外的添加剂。
7.一种方法,该方法包括:
a)提供基板;
b)使用无电镀铜组合物在所述基板上无电沉积铜,所述组合物包含一种或多种铜离子源,一种或多种选自乙内酰脲和乙内酰脲衍生物的螯合剂,以及一种或一种选自果糖和果糖酯的还原剂。
8.一种方法,该方法包括:
a)提供包括多个通孔的印刷电路板;
b)对所述通孔进行表面清洁;
c)使用无电铜浴在通孔壁上沉积铜,所述铜浴包含:一种或多种铜离子源,一种或多种选自乙内酰脲和乙内酰脲衍生物的螯合剂,以及一种或一种选自果糖和果糖酯的还原剂。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述无电镀铜组合物还包含一种或多种另外的添加剂。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理