[发明专利]彩色滤光基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 200710122778.X 申请日: 2007-07-09
公开(公告)号: CN101344722A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 陈锦隆;吴泉毅 申请(专利权)人: 中华映管股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种彩色滤光基板的制造方法,尤指一种适用于用隔离层 保护周缘电极端子的彩色滤光基板的制造方法。

背景技术

请参阅图1(a)至1(c),现有的液晶显示装置多以真空注入液晶工法将 液晶101填充入框胶102、第一基板103、以及第二基板104所构成的空槽中。 由于真空注入液晶工法是利用空槽的毛细管现象将液晶101经由框胶102 的开口106注入空槽中,待液晶101填满空槽之后,以封止剂105封闭开口 106,再照射紫外线(UV)硬化封止剂105,通过此使液晶101夹置于第一基 板103与第二基板104之间。因此,不论是扭转向列型(twisted nematic mode,TN mode)、平面控制型(in-plane switching mode,IPS mode)、 光学补偿弯曲排列型(optically compensation bend mode,OCB mode)、 或垂直排列型(vertically aligned mode,VA mode)的液晶显示装置,只 要采用真空注入液晶工法的液晶显示装置,在封止完毕的液晶显示装置的 框胶102外就会有多余的液晶填充于第一基板103以及第二基板104之间。 所以,封止完毕的液晶显示装置还需要以洗剂将框胶102外的液晶清除。

目前,常用于清洗已封止完毕的液晶显示装置的洗剂为直链型脂肪族 二醇的洗剂(Kao社的LC-841)。然而,洗剂的两个醇基常会和液晶显示装 置基板上的透明电极层,例如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO),产生强大 的氢键结合(hydrogen bonding),使洗剂残留在液晶显示装置的基板上。 以垂直排列型的液晶显示装置为例(参阅图2),彩色滤光片201在框胶202 外的透明电极层203和洗剂204产生氢键结合,造成洗剂204残留在透明电 极层203上。此框胶202外的透明电极层203一般作为液晶显示装置向外电 性连接的端子。因此,残留的洗剂204经静电电解或接触空气氧化为有机 酸后,就会腐蚀端子造成立即性或经时性断路。

此外,液晶显示装置整个洗净过程中,大约要花整个洗净时间的六分 之五的时间在清除洗剂上,真正用来清洗液晶的时间只占整个洗净时间的 六分之一。换句话说,液晶显示装置的洗净过程消耗大部分的电力、纯水、 与时间在洗剂的清除上,浪费很多时间和资源。

因此,曾有人揭露一种液晶显示器及其制造方法,其是利用真空引入 的方式,使高粘度封胶37渗入液晶显示装置框胶34外第一基板36和第二基 板33之间的间隙,以全面紧密覆盖整个端子部32(参阅图3)。通过此,保 护液晶显示器的端子部32,避免端子腐蚀。然而,此方法需要额外的材料 (高粘度封胶37)以及额外的方法(真空引入方式)才能达成。

另外,也有揭露另一种液晶显示装置,其是通过由注入有机粘胶46于 液晶显示器外缘(框胶43外)的间隙,使第一基板41和第二基板42的电极 41a和42a与外界隔绝(参阅图4)。通过此,防止透明电极41a的消溶现象及 抵抗湿气。然而,此方法同样需要额外的材料(有机粘胶46)、以及额外的 方法(例如涂布液状有机粘胶46,再加热硬化)才能达成。

因此,如何降低液晶显示器端子腐蚀的发生,并且不会增加额外的材 料以及方法,实为目前亟待解决的课题。

发明内容

本发明目的是提供一种彩色滤光基板的制造方法。

为解决上述问题,本发明于彩色滤光基板的周缘形成一隔离层以保护 透明电极层所形成的电极端子,通过此避免洗剂和透明电极层(例如ITO层) 接触而形成氢键结合,进而造成电极端子腐蚀。并且,该隔离层可与显示 装置之间隔物(spacer)或垂直配向型显示装置的凸块(bump)同时形成,故 可避免增加额外的材料或方法。

本发明提供一种彩色滤光基板的制造方法,其步骤包括:提供一基板, 该基板上包含一遮光层、一滤光层及一透明电极层;涂布一第一光阻层于 该基板上;以及图案化该第一光阻层,以同时形成多数个间隔物与一隔离 层。

在本发明的制造方法中,该些间隔物是用以支撑显示装置的两相对基 板之间的间隙。该些间隔物的位置不限定,较佳是位于该遮光层上方。该 隔离层是位于该基板的周缘,以保护位于该基板周缘的电极端子。

在本发明的制造方法中,由于该隔离层与该些间隔物是同时形成,故 该隔离层的高度与材料均会和该些间隔物相同。

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