[发明专利]Al2O3/Al-Si-Cr复合涂层及其制备方法无效
申请号: | 200710122224.X | 申请日: | 2007-09-24 |
公开(公告)号: | CN101121308A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 周春根;蔡锐;姚登樽;张虎;徐惠彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;B32B9/00;C23C4/00;C23C4/02;C23C4/04;C23C4/18;B01D1/16;B01J2/02 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 | 代理人: | 李有浩 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | al sub si cr 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种涂层的制备方法,更特别地说,是指一种采用低压(30~40×103pa)等离子喷涂方法在Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体上制备出具有高温(1000~1250℃)抗氧化性能的Al2O3/Al-Si-Cr复合涂层。
背景技术
铌基合金具有较高的熔点(>1700℃),较低的密度(6.6~7.2g/cm3),良好的室温断裂韧性(>20Mpa·m1/2),良好的高温强度以及铸造性能,因而有望成为在1200~1400℃甚至更高温度下工作的叶片材料。但是Nbss/Nb5Si3双相合金抗氧化性能差,高温氧化时存在严重的氧化增重现象。形成的氧化物如:TiNb2O7,AlNb11O29和CrNbO4等疏松多孔,而且生长迅速,无法阻挡氧向基体的继续扩散,因而达不到高温抗氧化作用。
Al、Cr、Si三种元素具有优越的高温抗氧化作用,它们的氧化物Al2O3、SiO2和Cr2O3能够阻挡氧的扩散,阻止氧化的进一步进行。Al、Cr、Si经化合形成许多化合物,这些化合物都具有很好的高温抗氧化性能,但部分化合物受其熔点的影响,限制了其高温应用。Cr(Al,Si)2抗氧化性好,熔点高(>1250℃)。因而具有很高的高温应用价值。
Al2O3具有很高的熔点,致密的Al2O3层不仅能够阻止氧元素的扩散,而且能够阻止Nb、Ti、Al、Cr、Si等较大原子半径的元素的扩散,是很好的阻扩散层材料的选择。
随着涂层技术的发展,更高性能、更加复杂结构的涂层体系正在被逐渐开发。发展多层复合涂层是现在涂层发展的重要方向之一。在高温抗氧化涂层体系中,抗氧化涂层会随着氧化时间的增加逐渐失效。导致其失效的原因主要是活性元素的消耗。活性元素的消耗包括两个过程:(1)活性元素与环境中扩散来的氧结合形成氧化物;(2)活性元素在高温环境中向基体方向扩散。为了提高涂层的使用寿命,在抗氧化层与基体之间增加一层阻扩散层是十分必要的。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种Al2O3/Al-Si-Cr复合涂层,该复合涂层由Al2O3涂层和Al-Si-Cr混合层组成,Al2O3涂层在Al-Si-Cr混合层与Nb-24Ti-16Si-6Al-6Cr-2Hf基体之间,Al2O3涂层厚度为50~200μm,Al-Si-Cr混合层厚度为50~200μm。Al-Si-Cr混合层由Cr(Si,Al)2、Al、Si三相组成,其在高温1000~1250℃氧化100h以内在Al-Si-Cr混合层表面形成有Al2O3和SiO2的混合氧化物层,能够成功阻止氧向基体的扩散。本发明制得的Al2O3/Al-Si-Cr复合涂层经过SEM分析氧化后(氧化条件1000~1250℃氧化100h时)的涂层断面表明,氧化后涂层由三层组成:外层为Al-Si-Cr混合涂层的氧化物层;中间层为Al-Si-Cr混合涂层;内层为Al2O3。Al2O3层在氧化过程中,起到了阻扩散作用,成功阻止了基体与涂层之间的互扩散作用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710122224.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法