[发明专利]一种等离子体处理装置无效
| 申请号: | 200710119339.3 | 申请日: | 2007-07-20 |
| 公开(公告)号: | CN101351075A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
| 发明(设计)人: | 刘文革;李玉玲 | 申请(专利权)人: | 李玉玲;刘文革 |
| 主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H05K7/20 |
| 代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王勇 |
| 地址: | 25260*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,包括用于放电产生等离子体的电极,所述电极包括电极本体(104)和覆盖在所述电极本体(104)表面的绝缘介质层(101),其特征在于,所述电极本体和所述绝缘介质(101)之间还设有导电填充层(103)。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述电极本体(104)包括至少一个导电圆柱体,所述圆柱体的外表面包覆有绝缘介质层(101),所述圆柱体与所述绝缘介质层(101)之间设有导电填充层(103)。
3.根据权利要求2所述等离子体处理装置,其特征在于,所述导电圆柱体为中空的导电圆柱管(201),所述圆柱管内部(201)设有散热装置。
4.根据权利要求3所述等离子体处理装置,其特征在于,所述散热装置为通有流体的管道。
5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述流体为空气、氮气、氩气、水、盐水或丙二醇水溶液。
6.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述圆柱管内部(201)直接通有用于冷却的流体。
7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述流体为空气、氮气或氩气。
8.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,还包括用于固定所述电极的吊装件(301),所述吊装件(301)下部设有沿所述圆柱状电极本体纵向轴的开口,所述开口的宽度小于所述圆柱状电极本体的直径,所述圆柱状电极固定于所述开口上,沿所述圆柱状电极本体的纵向轴可以设有一个或多个吊装件(301)。
9.根据权利要求2所述的等离子处理装置,其特征在于,还包括气体供给装置,所述电极由至少两个所述圆柱状电极本体组成,所述气体供给装置将工作气体和保护气体通过圆柱状电极本体之间的缝隙输送到等离子体放电区域。
10.根据权利要求1所述等离子体处理装置,其特征在于,所述电极为平面电极,所述平面电极的表面覆盖有绝缘介质层(101),所述平面电极与所述绝缘介质层(101)之间设有导电的填充层(103)。
11.根据权利要求1所述等离子体处理装置,其特征在于,所述填充层(103)四周设有绝缘密封层(102)。
12.根据权利要求11所述等离子体处理装置,其特征在于,所述绝缘密封层(102)由绝缘密封胶和含氟硅橡胶“O”型圈组成。
13.根据权利要求11所述等离子体处理装置,其特征在于,所述填充层(103)中设有吸气剂。
14.根据权利要求13所述等离子体处理装置,其特征在于,所述吸气剂掺杂在所述填充层材料中。
15.根据权利要求13所述等离子体处理装置,其特征在于,所述吸气剂集中在所述填充层的某一区域。
16.根据权利要求15所述等离子体处理装置,其特征在于,所述区域设置在填充层(103)的四周边缘。
17.根据权利要求1所述等离子体处理装置,其特征在于,所述填充层(103)为导电粉末填充层或导电网。
18.根据权利要求17所述等离子体处理装置,其特征在于,所述导电网的网格中填充有所述导电粉末。
19.根据权利要求17或18所述等离子处理装置,其特征在于,所述导电粉末为金属粉末、石墨粉、碳纳米管或各种导电纳米颗粒。
20.根据权利要求17或18所述等离子体处理装置,其特征在于,所述导电粉末的粒度大于100目。
21.根据权利要求17或18所述等离子体处理装置,其特征在于,所述导电粉末的粒度大于300目。
22.根据权利要求1所述等离子体处理装置,其特征在于,所述绝缘介质层(101)的材料为玻璃、硅橡胶、陶瓷或绝缘金属氧化物。
23.根据权利要求22所述等离子体处理装置,其特征在于,所述玻璃的耐温大于或等于400℃
24.根据权利要求22所述等离子体处理装置,其特征在于,所述玻璃为派热克斯玻璃、K9玻璃、钢化玻璃或石英玻璃。
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