[发明专利]一种二维表面粗糙度评定中建立轮廓基准线的方法无效
申请号: | 200710117791.6 | 申请日: | 2007-06-25 |
公开(公告)号: | CN101082484A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 王中宇;孟浩;付继华 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G01B21/30 | 分类号: | G01B21/30 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 贾玉忠;卢纪 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二维 表面 粗糙 评定 建立 轮廓 基准线 方法 | ||
1.一种二维表面粗糙度评定中建立轮廓基准线的方法,其特征在于步 骤如下:
(1)采集或从数据文件中载入表面轮廓数据,根据待评定表面的实际 状况选取取样长度l和评定长度ln;
(2)根据选定的取样长度l和评定长度ln,截取轮廓数据为:
x(0)={x(0)(1),x(0)(2),…,x(0)(N)} (1)
其中,N为评定长度内原始轮廓采样数据的个数,设一个取样长度内采 样数据个数为n,以序列x(0)中从x(0)(m+1)开始的连续n项作为原始轮廓采样 数据的m时刻序列,即,
xm(0)={xm(0)(1),xm(0)(2),…,xm(0)(n)}={x(0)(m+1),x(0)(m+2),…,x(0)(m+n)}(2)
其中,m=0,1,2,…,N-n;
(3)利用灰色滚动模型,对原始轮廓采样数据的m时刻序列xm(0)进行 灰色建模,得到灰色模型值序列:
所述的灰色建模方法为:
(3.1)对序列xm(0)进行一次累加生成,得到生成序列xm(1):
xm(1)={xm(1)(1),xm(1)(2),…,xm(1)(n)}
其中,
zm(1)={zm(1)(1),zm(1)(2),…,zm(1)(n)}
其中,
(3.2)建立生成序列的一阶灰色微分方程:
xm(0)(k)+amzm(1)(k)=bm
其中,am和bm为灰色微分方程的待定参数,将上述的一阶灰色微分方程 用矩阵形式表示为:
Ym=φmθm
其中,
上式为n-1维二元矛盾方程组,其中Ym和φm为已知量,θm为待定参数。 求解该矛盾方程组,可得θm的最小二乘估计值:
(3.3)以上式中求得的为参数,建立灰色微分方程所对应的白化微 分方程:
(3.4)通过求解上述白化微分方程,得到微分方程的解为:
其中,k=1,2,…,n;
(3.5)通过累减生成,得到灰色模型值序列:
其中,k=1,2,…,n,其中k是序列中的元素的序号,其取值应与原始序列 中的元素序号保持一致;
(4)由步骤(3)得到的灰色模型值序列集合,求出序列xm(0)所对应的 灰色模型曲线;
(5)对步骤(4)得到的所有模型曲线进行综合得到一条光滑的轮廓曲 线,此曲线即为粗糙度评定的轮廓基准线。
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