[发明专利]微晶玻璃以及微晶玻璃的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及SiO₂-Al₂O₃系或Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系的微晶玻璃及其制造方法。涉及一种微晶玻璃及其制造方法，该微晶玻璃优选可用于作为被严格要求极低膨胀特性、表面的超平滑性、或高刚性等的各种精密部件的广泛用途中，适合作为新生代半导体制造装置的各种组成部件。

背景技术

SiO₂-Al₂O₃系或Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系的微晶玻璃可以具有例如低膨胀特性(例如，参照专利文献1、专利文献2。)，另外，还具有例如高刚性、研磨后的表面的超平滑性等、此类微晶玻璃特有的有用的物性。

另一方面，SiO₂-Al₂O₃系或Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系的微晶玻璃，其制造过程中的前体玻璃的熔解温度通常很高，为1450℃～1600℃。这些微晶玻璃为了制造过程的熔解时的均质化和澄清化，会添加澄清剂，作为在前述那样的高的温度区域有效的澄清剂，一直使用砷成分、锑成分。但是，砷成分、锑成分可能会对人体和环境带来不好的影响，尽可能控制使用这些成分的要求正在提高。

但是，一直以来，还没发现一种SiO₂-Al₂O₃系或Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系的微晶玻璃的组成，其可维持低膨胀特性等这些微晶玻璃的有特征的各物性，并且包含代替砷成分、锑成分且具有与这些成分相同的高澄清效果的澄清剂。

专利文献3、专利文献4、专利文献5公开了一种Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系的微晶玻璃，启示了除As₂O₃成分或Sb₂O₃成分以外的澄清剂。

专利文献3的实施例都含有与以往相同程度的量的As₂O₃成分或Sb₂O₃成分，没有证实减少这些澄清剂的含量或者不含这些澄清剂的情况下，能否得到在该文献中所主张的效果。

专利文献4的实施例都含有与以往相同程度的量的As₂O₃成分，没有证实减少这些澄清剂的含量或者不含这些澄清剂的情况下，能否得到在该文献中所主张的效果。

专利文献5的实施例不包含As₂O₃成分或Sb₂O₃成分，但可见光区的透过率差，膨胀系数也大。

专利文献6公开了一种为了得到澄清效果而在制造过程中添加了氦、氖的Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系微晶玻璃的制造方法。作为氦、氖的添加方法，公开有在氦、氖气氛中熔融原料的方法和以高浓度含有氦、氖的物质、碎玻璃作为原料进行熔融的方法。但是，前者的方法，制造设备的成本变大，设备的维修成本也变大。另外，后者的方法，制造或由市场购买高浓度含有氦、氖的物质、碎玻璃是不现实的。

专利文献1：日本特开平8-133783号公报

专利文献2：日本特开2005-89272号公报

专利文献3：日本特开2002-326837号公报

专利文献4：日本特开2000-247681号公报

专利文献5：日本特开昭60-255634号公报

专利文献6：日本特开2005-53711号公报

发明内容

发明要解决的课题